Si3N4 X射線同步輻射用氮化硅薄膜窗口
| 參考價(jià) | ￥ 120 |
| 訂貨量 | ≥1 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 上海昭沅儀器設(shè)備有限公司
- 品牌
- 型號(hào) Si3N4
- 產(chǎn)地 進(jìn)口
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2018/5/14 9:00:00
- 訪問次數(shù) 1254
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各種光學(xué)顯微鏡,顯微鏡、勻膠機(jī)、等離子清洗機(jī)、干燥箱、探針式臺(tái)階儀輪廓儀,防震平臺(tái),全光纖測(cè)試系統(tǒng),凝固點(diǎn)測(cè)試儀,金屬相圖儀,電鏡耗材
X射線透射顯微成像/能譜（同步輻射）用氮化硅薄膜窗口
產(chǎn)品概述：
X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線（如真空紫外線）的zui大透射率。主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時(shí)承載樣品。 X-射線越軟（能量越低），穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在“離軸”狀態(tài)工作（即薄膜與光束成一定角度）時(shí)，也需要較薄的薄膜窗口，便于X射線更好地穿透。
氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成，由于此種氮化硅窗口選用低應(yīng)力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比計(jì)量式和ST氮化硅薄膜更堅(jiān)固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域，例如，X-射線（上海光源透射成像/能譜線站）、TEM、SEM、IR、UV等。
現(xiàn)在提供X-射線顯微成像/能譜（同步輻射）用氮化硅薄膜窗系列產(chǎn)品，規(guī)格如下：
外框尺寸 （4種標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格）:
外框尺寸 （4種標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格）:
- 5 mm x 5 mm （窗口尺寸：1.0 mm或和 1.5 mm 方形）
- 7.5 mm x 7.5 mm （窗口尺寸：2.0 mm或 2.5 mm）
- 10 mm x 10 mm （窗口尺寸：3.0 mm或 5 mm 方形）
邊框厚度： 200µm、381µm、525µm。
Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm
Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm
我們也可以為用戶定制產(chǎn)品（30-500nm），但要100片起訂。
本產(chǎn)品為一次性產(chǎn)品，不建議用戶重復(fù)使用，本產(chǎn)品不能進(jìn)行超聲清洗，適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。
技術(shù)指標(biāo)：
透光度：
對(duì)于X射線用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，對(duì)于軟X射線（例如碳邊吸收譜），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶*。
對(duì)于X射線用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，對(duì)于軟X射線（例如碳邊吸收譜），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶*。
真空適用性：
真空適用性數(shù)據(jù)如下：
| 薄膜厚度 | 窗口面積 | 壓力差 |
| ≥50 nm | ≤1.0 x 1.0 mm | 1 atm |
| ≥100 nm | ≤1.5 x 1.5 mm | 1 atm |
| ≥200 nm | ≤2.5 x 2.5 mm | 1 atm |
表面平整度：
氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品的表面平整性很穩(wěn)定（粗糙度小于1nm），對(duì)于X射線應(yīng)用沒有任何影響。
溫度特性：
氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品是耐高溫產(chǎn)品，能夠承受1000度高溫，非常適合在其表面利用CVD方法生長(zhǎng)各種納米材料。
化學(xué)特性：
氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。
應(yīng)用簡(jiǎn)介和優(yōu)點(diǎn)：
1、同步輻射X射線（紫外或極紫外）透射成像或透射能譜應(yīng)用中是*的樣品承載體。
2、耐高溫、惰性襯底，適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，利于制備理想的用于X射線表征用的自組裝單層薄膜或薄膜（薄膜直接沉積在窗口上）。
3、生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。
4、耐高溫、惰性襯底，也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。
5、適合做為膠體、氣凝膠、有機(jī)材料和納米顆粒等的表征實(shí)驗(yàn)承載體。
同步輻射X射線應(yīng)用參考文獻(xiàn)：PRL
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