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CG-MLC6 實驗室無掩膜曝光機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 合肥重光電子科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CG-MLC6
  • 產地 安徽省合肥市經(jīng)開區(qū)
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2025/5/22 10:39:40
  • 訪問次數(shù) 473

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     合肥重光電子科技有限公司是一家專業(yè)從事儀器設備的生產商。針對國家大力扶持的太陽能電池和半導體等科技領域。

        我司有專業(yè)的檢測儀器和工藝實驗設備,能夠滿足不同客戶的打樣和定制化需求。同時我司與中國科學技術大學微納加工平臺、合肥工業(yè)大學微納加工平臺保持技術上的交流,能有效幫助客戶解決工藝問題。

        我司提供產品的定制化代工業(yè)務,滿足客戶對自營品牌的需求,讓客戶從而實現(xiàn)資產輕量化運營。

        ‍‍我司產品優(yōu)勢:提供定制化服務,滿足客戶多樣化需求,從而為客戶節(jié)約更多科研經(jīng)費。其中低速勻膠平穩(wěn),結束低粘度光阻勻膠依賴進口品牌。

 

 

 

勻膠、熱板、顯影、等離子、光刻設備

實驗室無掩膜曝光機產品特點:

數(shù)字光刻系統(tǒng)

微納器件無掩模版直寫光刻

光掩模版制作

3D結構曝光功能                                        

自動對準功能

用戶自定義標記對準功能

可視化定點曝光功能

自動聚焦功能                                          

不規(guī)則樣片曝光

快速、精細兩種曝光模式

支持多種數(shù)據(jù)格式(GDSⅡ/ Gerber/ O DB++)

背部對準功能(選配)                   

405nm LD光源(375nm可選)

實驗室無掩膜曝光機參數(shù):

型號

MLC Lite

ModeⅠ

Mode  Ⅱ

Mode Ⅲ

最小特征尺寸

0.5μm

1μm

2μm

最小線寬線距

0.8μm

1.2μm

2.5μm

CD均勻性

10%

10%

10%

兩層對位精度 5x5m㎡

500nm

800nm

1000nm

兩層對位精度 50x50m㎡

800nm

1000nm

1500nm

產能

50mm²/min

100mm²/min

300mm²/min

最小基板尺寸

5mm x 5mm

基板厚度

0.1 - 12mm(可選)

曝光面積

150mm x 150mm

灰度曝光

可選128階

曝光光源

Laser, 405nm or 375nm

 

 

 



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