SV750 半導(dǎo)體制造到科研設(shè)備萊寶真空泵
參考價(jià) | ¥ 21000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 東莞市飛粵真空科技有限公司
- 品牌 Leybold/德國(guó)萊寶
- 型號(hào) SV750
- 產(chǎn)地 中國(guó)東莞
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2025/4/23 10:44:55
- 訪問(wèn)次數(shù) 91
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BUSCH普旭,Rietschle里其樂(lè)/偉力,Leybold萊寶,Becker貝克,英國(guó)BOC Edwards愛(ài)德華,日本ULVAC愛(ài)發(fā)科,Orion好利旺,TAIKO大晃,法國(guó)ALCATEL阿爾卡特,Pfeiffer普發(fā)等。
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天 |
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萊寶真空泵在電子科技領(lǐng)域的核心應(yīng)用解析:從半導(dǎo)體制造到科研設(shè)備
1. 半導(dǎo)體制造
半導(dǎo)體制造是萊寶真空泵的核心應(yīng)用領(lǐng)域,涉及多個(gè)高精度工藝環(huán)節(jié):
- 薄膜沉積:
- 化學(xué)氣相沉積(CVD):用于生成絕緣層(如SiO?)或?qū)щ妼樱ㄈ缍嗑Ч瑁?,萊寶渦輪分子泵提供高真空環(huán)境以確保薄膜均勻性。
- 物理氣相沉積(PVD):在濺射鍍膜中,真空泵維持10??~10?? mbar的真空度,確保金屬層(如鋁、銅)的高質(zhì)量附著。
- 離子注入:真空泵用于去除雜質(zhì)氣體,保證離子束精確摻雜,提升芯片電性能。
- 光刻與蝕刻:在等離子蝕刻(Dry Etching)中,真空系統(tǒng)快速排出反應(yīng)氣體副產(chǎn)物,避免殘留污染。
技術(shù)優(yōu)勢(shì):萊寶的干式螺桿泵(如SCREWLINE系列)無(wú)油污染,適合敏感工藝;渦輪分子泵(如MAGiNTEGRA)具備高抽速和極限真空(<10?? mbar),滿足制程(如5nm以下)需求。
2. 平板顯示制造(OLED/LCD)
在OLED和液晶面板生產(chǎn)中,真空泵用于:
- OLED蒸鍍:在高真空(10?? mbar)下蒸鍍有機(jī)材料,萊寶泵確保材料純度和像素精度,避免氧化失效。
- 液晶灌注:真空環(huán)境排除氣泡,保證液晶均勻填充,提升顯示一致性。
- 透明導(dǎo)電層(ITO)鍍膜:磁控濺射工藝中,真空泵維持穩(wěn)定壓力,確保ITO薄膜的導(dǎo)電性和透光率。
應(yīng)用案例:萊寶的COBRA干式渦旋泵用于蒸鍍?cè)O(shè)備,耐腐蝕且免維護(hù),適合有機(jī)材料的高要求環(huán)境。
3. 光伏產(chǎn)業(yè)(太陽(yáng)能電池)
-薄膜太陽(yáng)能電池(如CIGS):真空泵用于CVD/PVD鍍膜,形成吸光層和透明電極,提升光電轉(zhuǎn)換效率。
- 硅片加工:在晶硅電池的擴(kuò)散爐中,真空系統(tǒng)控制磷摻雜過(guò)程,優(yōu)化PN結(jié)質(zhì)量。
技術(shù)特點(diǎn):萊寶的RUVAC羅茨泵與旋片泵組合,實(shí)現(xiàn)大抽氣量和高能效,降低生產(chǎn)成本。
4. 電子元件封裝與測(cè)試
- 氣密封裝:真空環(huán)境防止芯片氧化,萊寶泵用于陶瓷/金屬封裝前的預(yù)抽真空(10?3 mbar)。
- 真空回流焊:減少焊點(diǎn)氣泡,提升連接可靠性,適用于高密度封裝(如BGA、CSP)。
-失效分析:掃描電鏡(SEM)等設(shè)備依賴真空泵提供無(wú)干擾成像環(huán)境。
科研設(shè)備
-電子顯微鏡(SEM/TEM):渦輪分子泵維持超高真空(10??~10?1? mbar),確保電子束無(wú)散射。
- 粒子加速器:萊寶泵用于束流管道的真空維持,減少粒子碰撞損失。
- 量子計(jì)算:超導(dǎo)量子比特需要在極低溫與超高真空環(huán)境下運(yùn)行,真空泵保障系統(tǒng)穩(wěn)定性。
萊寶真空泵的技術(shù)優(yōu)勢(shì)
-高潔凈度:干式泵技術(shù)避免油污染,適合潔凈室環(huán)境。
- 高效節(jié)能:變頻驅(qū)動(dòng)(如DUO系列)降低能耗30%以上。
- 智能控制:集成傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)控壓力、溫度,支持IoT遠(yuǎn)程運(yùn)維。
- 長(zhǎng)壽命設(shè)計(jì):耐腐蝕材料和模塊化結(jié)構(gòu)減少停機(jī)時(shí)間。
行業(yè)趨勢(shì)與未來(lái)方向
- 極紫外光刻(EUV):隨著EUV光刻機(jī)普及,萊寶研發(fā)更高抽速的泵以應(yīng)對(duì)氫氣等輕氣體處理。
- 第三代半導(dǎo)體(GaN/SiC):高溫CVD工藝需要耐高溫真空解決方案。
- Mini/Micro LED:更小像素間距要求真空系統(tǒng)精度進(jìn)一步提升。半導(dǎo)體制造到科研設(shè)備萊寶真空泵
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