半導(dǎo)體硅片在制造過(guò)程中會(huì)經(jīng)歷多道工序，如光刻、蝕刻、沉積等，這些工序會(huì)使硅片表面沾染上各種污染物，包括灰塵、有機(jī)物、金屬顆粒以及化學(xué)殘留物等。硅片清洗機(jī)的基本原理是通過(guò)物理和化學(xué)的方法，將這些污染物從硅片表面去除，以保證后續(xù)工藝的準(zhǔn)確性和可靠性。其作用不僅僅是清潔硅片表面，還在于提高半導(dǎo)體器件的性能、良品率和使用壽命。

主要清洗技術(shù)

（一）超聲波清洗

利用超聲波在液體中產(chǎn)生的空化效應(yīng)，形成無(wú)數(shù)微小氣泡并不斷破裂，產(chǎn)生強(qiáng)大的沖擊力，將硅片表面的污染物震落。這種清洗方式對(duì)于去除硅片表面的微粒和松散附著的雜質(zhì)非常有效，尤其適用于清洗復(fù)雜形狀的硅片和有微小縫隙的結(jié)構(gòu)。

（二）高壓噴淋清洗

通過(guò)高壓噴頭將清洗液噴射到硅片表面，依靠高速液流的沖擊力來(lái)清除污染物。這種方式能夠快速?zèng)_洗掉硅片表面的大部分污染物，并且可以對(duì)硅片進(jìn)行清洗，確保清洗的均勻性。

（三）化學(xué)濕法清洗

使用特定的化學(xué)清洗液與硅片表面的污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將其溶解或轉(zhuǎn)化為可溶于清洗液的物質(zhì)，從而達(dá)到清洗的目的。例如，使用氫氟酸溶液去除硅片表面的氧化物，使用有機(jī)溶劑去除有機(jī)物污染等?；瘜W(xué)濕法清洗可以根據(jù)不同的污染物選擇合適的清洗液配方，具有針對(duì)性強(qiáng)、清洗效果的優(yōu)點(diǎn)。

設(shè)備結(jié)構(gòu)與組成

半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)通常由清洗腔體、清洗液循環(huán)系統(tǒng)、超聲波發(fā)生器、高壓噴淋系統(tǒng)、機(jī)械傳動(dòng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等部分組成。

清洗腔體是放置硅片并進(jìn)行清洗的核心部件，一般采用耐腐蝕、耐高溫的材料制成，如不銹鋼、聚四氟乙烯等，以確保在清洗過(guò)程中不會(huì)對(duì)硅片造成污染。清洗液循環(huán)系統(tǒng)負(fù)責(zé)將清洗液輸送到清洗腔體，并在清洗過(guò)程中不斷循環(huán)過(guò)濾，保持清洗液的清潔度和濃度穩(wěn)定。超聲波發(fā)生器產(chǎn)生超聲波能量，通過(guò)換能器將電能轉(zhuǎn)化為超聲波振動(dòng)，傳遞到清洗液中。高壓噴淋系統(tǒng)則包括高壓泵、噴頭等部件，用于產(chǎn)生高壓液流對(duì)硅片進(jìn)行噴淋清洗。機(jī)械傳動(dòng)系統(tǒng)用于實(shí)現(xiàn)硅片在清洗腔體內(nèi)的輸送和旋轉(zhuǎn)，確保硅片各個(gè)表面都能得到充分清洗?？刂葡到y(tǒng)是整個(gè)清洗機(jī)的大腦，它能夠精確控制清洗參數(shù)，如清洗時(shí)間、溫度、超聲波功率、噴淋壓力等，同時(shí)還能實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化操作和故障報(bào)警等功能。

性能特點(diǎn)與技術(shù)指標(biāo)

（一）高性能特點(diǎn)

高潔凈度：能夠?qū)⒐杵砻娴奈廴疚锶コ退?，滿足半導(dǎo)體制造對(duì)潔凈度的嚴(yán)格要求，通?？蛇_(dá)到納米級(jí)甚至原子級(jí)的潔凈度。

高精度清洗：對(duì)硅片的表面平整度、粗糙度等影響極小，能夠保證硅片的幾何精度和表面質(zhì)量，這對(duì)于后續(xù)的光刻、蝕刻等高精度工藝至關(guān)重要。

多功能一體化：集成了多種清洗技術(shù)，可根據(jù)不同的硅片類型和污染情況進(jìn)行靈活選擇和組合，實(shí)現(xiàn)高效、全面的清洗。

自動(dòng)化程度高：具備自動(dòng)化的硅片輸送、清洗、干燥等流程，能夠?qū)崿F(xiàn)無(wú)人值守的連續(xù)作業(yè)，大大提高了生產(chǎn)效率和穩(wěn)定性。

安全可靠：采用的安全防護(hù)設(shè)計(jì)，如防爆、防泄漏、防靜電等措施，確保設(shè)備在運(yùn)行過(guò)程中的安全性和可靠性，同時(shí)也保護(hù)了操作人員的健康。

（二）關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)

清洗效率：通常以單位時(shí)間內(nèi)能夠清洗的硅片數(shù)量來(lái)衡量，高效的清洗機(jī)每分鐘可清洗數(shù)十片甚至上百片硅片，以滿足大規(guī)模半導(dǎo)體生產(chǎn)的需要。

清洗精度：包括對(duì)硅片表面污染物的去除精度和對(duì)硅片本身的損傷精度。一般來(lái)說(shuō)，去除污染物的精度可達(dá)到埃米級(jí)（?），對(duì)硅片的損傷精度可控制在納米級(jí)（nm）以下。

顆粒去除能力：能夠有效去除硅片表面的微小顆粒，顆粒去除尺寸下限可達(dá)幾十納米甚至更小，確保硅片表面無(wú)可見(jiàn)顆粒污染。

金屬污染控制能力：在清洗過(guò)程中，能夠嚴(yán)格控制清洗液中的金屬離子含量，防止金屬污染重新附著在硅片表面，一般要求金屬離子濃度在 ppb（十億分之一）級(jí)別以下。

溫度控制精度：清洗過(guò)程中對(duì)溫度的控制非常重要，溫度控制精度一般在±0.5℃以內(nèi)，以確保清洗效果的穩(wěn)定性和一致性。

超聲波頻率和功率：超聲波頻率和功率可根據(jù)硅片的尺寸、材質(zhì)和污染程度進(jìn)行調(diào)整，一般頻率范圍在 20 - 100kHz 之間，功率在幾百瓦到幾千瓦不等。