HORIBA GR-224FD 自動壓力調節(jié)器/質量流量傳感器

產品簡介

HORIBA GR-224FD 是一款專為半導體制造過程中的晶圓背面壓力控制而設計的自動壓力調節(jié)器/質量流量傳感器。該系列產品采用高精度壓力傳感器和高速響應的控制閥，能夠實現(xiàn)從真空到大氣壓的精確壓力控制，確保晶圓在等離子體 CVD、刻蝕等工藝中的溫度穩(wěn)定性。

產品特點

• 高精度壓力控制：內置高性能壓力傳感器，確保壓力控制的精度和穩(wěn)定性。

• 快速響應：采用高速響應的控制閥，實現(xiàn)快速的壓力調節(jié)，適應工藝過程中的壓力變化需求。

• 支持 EtherCAT 通信：具備 EtherCAT 通信接口，方便與上位機系統(tǒng)集成，實現(xiàn)遠程控制和監(jiān)測。

• 緊湊設計：與質量流量控制器（MFC）尺寸相當，便于在設備中集成安裝。

• 多種氣體兼容：適用于氦氣（He）、氬氣（Ar）、氮氣（N?）等多種氣體。

技術規(guī)格

• 壓力控制范圍：2～100% F.S.

• 壓力精度：±0.5% F.S.

• 響應時間：3 秒以內

• 最大工作壓力：1000 kPa (A)

• 耐壓：1000 kPa (A)

• 外部泄漏率：5×10?12 Pa·m3/s (He) 以下

• 適用氣體：He, Ar, N?

• 接頭類型：1/4 英寸 VCR 相當

• 接氣部材質：SUS316L

• 工作溫度范圍：5～50℃（精度保證溫度范圍：15～40℃）

• 電源：24VDC ±4V

• 通信接口：DeviceNet

應用領域

• 半導體制造：用于等離子體 CVD、刻蝕等工藝中晶圓背面的壓力控制，確保溫度的均勻性和穩(wěn)定性。

• 真空設備：在真空成膜設備中，實現(xiàn)搬送腔體的壓力控制，確保晶圓在搬送過程中的安全性。

• 其他高精度壓力控制場合：適用于需要精確壓力控制的其他工業(yè)應用。