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光刻投影模組

具體成交價以合同協(xié)議為準

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江蘇集萃中科旨在光學(xué)組件、光學(xué)儀器、智能光電感知三大方向,開展系列關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān)與產(chǎn)業(yè)化實踐,目前已形成3D光學(xué)輪廓儀、白光干涉儀、反射膜厚儀、光致發(fā)光、無損檢測儀、光譜橢偏儀等標(biāo)準化產(chǎn)品。公司服務(wù)涵蓋光學(xué)儀器的研發(fā)、生產(chǎn)及制造一站式服務(wù),同時為客戶提供基于智能光電感知的智慧工廠整體解決方案。




白光干涉儀、光學(xué)輪廓儀、粗糙度儀、光學(xué)膜厚儀、光譜橢偏儀等光學(xué)產(chǎn)品。

價格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
組件類別 光學(xué)元件

光刻投影模組功能:

超低畸變設(shè)計

采用光學(xué)設(shè)計和高質(zhì)量非球面透鏡,確保成像邊緣和中心區(qū)域的一致性, 畸變率低于 0.1%,滿足高精度光刻需求。

精準控制倍率

支持高精度的倍率調(diào)節(jié)功能,倍率誤差控制在±0.01%以內(nèi),確保圖案轉(zhuǎn)移的精確性。

均勻照明系統(tǒng)

集成均勻化照明技術(shù),確保曝光區(qū)域光強分布一致,提升光刻質(zhì)量。

多波長兼容

支持紫外(UV)多種波長光源,適應(yīng)不同光刻工藝需求。


光刻投影模組技術(shù)參數(shù):

焦深 DOF

±300um ±300um

OPD

<1/2λ@370-440nm

場曲

<50μm

像散

<50μm

全視場畸變

<0.01% <0.02%

倍率色差

<3μm

軸向色差

<300μm

點陣 RMS

半徑<3.5μm



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