日本武藏雙液非接觸式JET點膠機DUAL JET
- 公司名稱 成都藤田光學儀器有限公司
- 品牌 MUSASHI/武藏
- 型號
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2025/6/28 16:47:41
- 訪問次數(shù) 95
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日本HOYA豪雅(UV固化燈,玻璃鏡片),日本MUSASHI武藏(點膠機),日本KANOMAX加野(粒子計數(shù)風速儀),日本FLUORO福樂(用于晶圓的搬 運),日本AND艾安得(電子天平)
產(chǎn)地類別 | 進口 |
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日本武藏雙液非接觸式JET點膠機DUAL JET
日本武藏雙液非接觸式JET點膠機DUAL JET
技術革新概述
DUAL JET雙液噴射點膠系統(tǒng)是面向化學反應型粘合劑開發(fā)的第四代工業(yè)涂布設備,通過飛行混合(Flight Mixing)技術突破傳統(tǒng)雙液點膠工藝瓶頸。該系統(tǒng)采用非接觸式雙流道噴射架構,使AB雙組分粘合劑在距基板5-15mm的空中完成瞬時撞擊混合,消除了混合腔體結構,實現(xiàn)*"零清洗、零殘留"的雙液涂布解決方案。
核心工藝優(yōu)勢
免維護混合機制
傳統(tǒng)設備因混合部固化殘留需頻繁停機清洗(平均每2小時/次),本設備通過V/I構型動態(tài)噴頭實現(xiàn):V模式:雙液45°角對射形成反應區(qū),適用于高粘度材料(≤50,000cps)
I模式:同軸層流疊加混合,支持3D曲面跟隨涂布
實測顯示可降低92%維護工時,年節(jié)約清洗劑成本超18萬元(按300天/年計)亞微升級控膠精度
配備壓電陶瓷驅(qū)動閥組,單點最小吐膠量0.001ml(±3% CV),配合0.5μm分辨率線性模組,實現(xiàn):半導體封裝:芯片底部填充膠縫控制≤50μm
動力電池:極耳涂布速度達120mm/s(膠寬誤差±0.1mm)
智能生產(chǎn)集成
通過OPC UA協(xié)議與機械臂協(xié)同,支持:動態(tài)路徑補償(適應±0.2mm工件公差)
流量-速度自適應算法(R=0.99線性相關)
工藝數(shù)據(jù)庫存儲200組配方參數(shù)
工業(yè)驗證數(shù)據(jù)
在新能源電池模組PACK線實測中(2024Q3):
材料利用率100%(傳統(tǒng)工藝損耗率15-20%)
切換時間從45分鐘縮短至3分鐘(配方自動調(diào)用)
百萬點膠缺陷率≤12ppm(ISO 2859-1標準)
典型應用場景
半導體:Chiplet異構封裝underfill
新能源:4680電池密封膠連續(xù)涂布
光學:VR透鏡雙組分光學膠貼合