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OPSQSP-25.4C05-10-5 西格瑪光機(jī)低散亂基片

參考價 100
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 深圳維爾克斯光電有限公司
  • 品牌 SIGMAKOKI/西格瑪光機(jī)
  • 型號 OPSQSP-25.4C05-10-5
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2025/6/30 16:07:11
  • 訪問次數(shù) 101

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維爾克斯光電(www.highlightoptics.com)專業(yè)代理歐美激光器、光譜儀、光電測試分析儀器和光電元器件。憑借強(qiáng)力的專業(yè)技術(shù)背景和多年的行業(yè)經(jīng)驗,維爾克斯能夠滿足客戶不同的應(yīng)用要求,精準(zhǔn)地為客戶提供高性價比的解決方案,并保證設(shè)備及時安裝、調(diào)試和故障排除。

我們提供自主開發(fā)的:微透鏡陣列、分束鏡、工程散射片、螺旋相位片、結(jié)構(gòu)光模組、離軸拋物面鏡、掃擺鏡、中空回射器、太赫茲透鏡、太赫茲窗口鏡、分辨率板、太赫茲鏡頭、激光防護(hù)眼鏡。

以色列Holoor公司衍射光學(xué)元件,光束整形器、高斯整平頂DOE、勻光鏡、勻化器、寬帶散射片、分束鏡、多焦點DOE、長焦深DOE、玻璃切割模組、定制衍射元件;

德國Holoeye公司結(jié)構(gòu)光DOE、激光散斑、隨機(jī)點陣、定制衍射元件;

德國ADLoptica光束整形器,pishaper光纖激光平頂整形,πshaper激光整形器;

美國RPC Photonics公司螺旋相位板、微透鏡陣列、工程散射片,工程漫射體,擴(kuò)散片;

美國Thorlabs,Edmund離軸拋物面鏡,微透鏡,激光防護(hù)鏡;

丹麥NILT納米壓印模板,微加工掩膜,納米壓印機(jī),硅模板,石英母版;

 

美國NOIR激光防護(hù)眼鏡,激光防護(hù)鏡,激光護(hù)目鏡常用型號:ARG, EC2, YG3, DBD, YG2, FG1, DBY, ND1, YLW;

德國Laservision激光護(hù)目鏡,激光防護(hù)鏡,激光防護(hù)玻璃,激光防護(hù)簾;

以色列DUMA公司 Spoton系列激光位置測量儀,Beamon光斑分析儀,光束分析儀,激光準(zhǔn)直儀, Autocollimator,內(nèi)調(diào)焦自準(zhǔn)直儀,Alignmeter激光位置角度測量儀;

法國Phaseview公司M2儀,光束質(zhì)量分析儀,激光輪廓儀,激光波前測量儀;

立陶宛Optogama公司紅外熱像儀(可替代7215紅外熱像儀)、紅外相機(jī)、紅外觀察儀、4lasers鏡片、晶體、擴(kuò)束鏡、人眼安全激光器;

美國Dataray光斑分析儀,光束分析儀,M2儀,紅外光斑分析儀;

白俄羅斯Solar Laser公司SHR波長計,SHR-IR激光波長計,低重頻大能量固體激光器;

加拿大Gentec功率計,能量計,太赫茲探測器;

     

美國Chroma公司濾光片、濾光片盒子、濾光片套裝、FISH濾光片、窄帶濾光片、拉曼濾光片;

美國Adnover公司濾光片,定制濾光片,超窄帶濾光片;

德國BATOP可飽和吸收鏡,SESAM,可飽和吸收耦合輸出鏡,共振可飽和吸收鏡,可飽和吸收體SA,太赫茲聚焦鏡,激光芯片,微芯激光器;

德國B.Halle公司消色差波片、超寬帶消色差波片;

美國Innovation Photonics中紅外聚焦鏡,中紅外隔離器,紅外光纖,紅外偏振片,光纖耦合透鏡;

德國Layertec飛秒激光鏡片,皮秒激光鏡片、寬帶鏡、啁啾鏡、GT干涉鏡;

美國DRO,Design research optics二氧化碳鏡片,ZnSe反射鏡,硒化鋅透鏡,CO2合束鏡、CO2分束鏡;

美國LRO,Laser Research Optics分光鏡、合束器、全反射鏡、部分反射鏡、金屬反射鏡、輸出耦合鏡、零相位延遲片、部分相位延遲片;

德國Femto Fiber公司布拉格光纖光柵;

 

美國Minusk隔震臺,減震平臺,精密隔振平臺,原子力顯微鏡隔振臺;

德國Marzhauser公司(MW)顯微鏡載物臺,手動顯微鏡平移臺;

英國PRIOR顯微鏡平臺,顯微鏡載物臺,顯微鏡電動平臺,納米電動平臺,自動上片機(jī),自動對焦系統(tǒng);

加拿大Zaber電控平移臺,線性致動器,旋轉(zhuǎn)臺,真空平移臺,內(nèi)置編碼器和驅(qū)動器的位移臺;

法國Piezoconcept納米平臺,納米壓電平臺;

芬蘭Sensapex微操作器,微操作系統(tǒng);

 

加拿大Sicencetech太陽光模擬器,AA*太陽光模擬器,光伏測試系統(tǒng),紅外光譜儀;

美國TTI公司C995光學(xué)斬波器,光纖脈沖轉(zhuǎn)換器,模擬信號收發(fā)器,O/E轉(zhuǎn)換模塊探測器;

美國Phase Photonics紅外光譜儀,中紅外光譜儀;

美國Scientech公司精密電子天平,激光功率計;

 

荷蘭Anteryon CP-332/CP-544激光器,非球面鏡;

德國Advanced Laser Diode Systems(ALSG)半導(dǎo)體皮秒激光器,可單模光纖、單光子輸出;

德國Frankfurt Laser公司各類激光器及激光配件;

德國Alphalas公司激光器,可調(diào)諧波片,寬帶可調(diào)波片,超快探測器UPD;

美國Photonics Industries公司(PI)納秒激光器,皮秒激光器,高功率,高能量;

日本Oxide公司266nm激光器,波長轉(zhuǎn)換器,晶體,激光組件;

立陶宛Eksma,Ekspla公司光纖激光器,超短脈沖選擇器,普克爾斯盒;

 

美國Terasense太赫茲相機(jī),太赫茲源, THz人體安檢儀,超快太赫茲探測器;

德國Menlo公司飛秒光纖激光器,太赫茲時域光譜系統(tǒng),飛秒激光同步激發(fā)的太赫茲光譜系統(tǒng),光學(xué)頻率合成器、光梳;

瑞士Rainbow Photonics太赫茲時域光譜系統(tǒng)(1-14THz),可調(diào)諧太赫茲源,THz有機(jī)晶體;

俄羅斯Tydex公司太赫茲光學(xué)元件、太赫茲透鏡、太赫茲波片、TH分光片、TH濾光片、太赫茲衰減片、太赫茲衍射鏡片,Golay Cell 高萊探測器;

西班牙NIT,德國TrinamiX,芬蘭Emberion,英國Redwavelabs紅外探測器。

 

俄羅斯SmarTThermoelectrics半導(dǎo)體制冷片,單極TEC,多極TEC熱電模塊;

德國Jutec耐高溫手套,隔熱手套,熱防護(hù)服;

美國AppliedImage公司圖像測試卡、ISO 測試卡 、圖像質(zhì)量分析軟件、Bar Code條形碼校正;

還代理英國Laser2000,德國Pleiger Laseroptik,立陶宛Optogama,美國Precision Laser Scanning等廠家;

 

油脂分析儀,石油分析儀,激光眼鏡,光學(xué)配件

應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子/電池,綜合 材質(zhì) 合成石英,紫外用CaF2 MgF2
表面粗糙度 <0.2nm(Ra)

超光滑表面(Ra<0.2nm),西格瑪光機(jī)低散亂平行平面基板/超光滑基板


日本西格瑪光機(jī)(日本SIGMAKOKI)生產(chǎn)的低散亂平行平面基板是一種專為減少基板散射影響而設(shè)計的光學(xué)元件。這類低散亂平面基板和楔形基板(OPSQSP/OPCFSP/OPMFSP/WSSQSP/WSCFSP/WSMFSP)通過特殊的拋光工藝,表面粗糙度可以控制在0.2nmRa)以下,因此還可稱為高平整度基板,西格瑪光機(jī)低散亂基片,OptoSigma超光滑基片和低散亂鏡片。這種精細(xì)的加工使得超光滑基板適合用于高能激光應(yīng)用中的反射鏡,以及X射線應(yīng)用中的反射鏡基板。

西格瑪光機(jī)低散亂基片


日本西格瑪光機(jī)低散亂基板圖示


低散亂基片/高平整度基板共同指標(biāo)

材質(zhì)

合成石英 紫外用CaF2 MgF2

表面粗糙度

0.2nmRa

有效直徑

外徑的90


OptoSigma西格瑪光機(jī)低散亂基片/低散亂鏡片的特點:

- 楔形基板用于希望清除分光鏡等反面反射的影響時。

- CaF2(氟化鈣),MgF2(氟化鎂)在紫外光譜區(qū)和紅外光譜區(qū)具有較高的透過性。

- 低散亂平行平面基板的表面粗糙度(微觀的凹凸)和面型精度(面整體的平坦程度)都進(jìn)行了高精度加工,基板接近理想平面。


日本SIGMAKOKI西格瑪?shù)蜕⑸浠?span style=";padding: 0px">/低散亂基片相關(guān)信息:在楔形基板最厚的地方印有指向正面的箭頭符號。


日本SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)低散亂基板的注意事項:

- 西格瑪?shù)蜕⑸浠?低散亂基片的兩面都沒有鍍膜,玻璃表面存在2.5%?4%的反射。

- 透過楔形基板使用時,光束會有0.5°左右的傾斜。

- CaF2表面很容易受損,不能用紙擦拭,請使用清潔用壓縮氣罐去除灰塵。

- CaF2,MgF2長時間放置在高濕度的環(huán)境下時,表面會變得粗糙,不使用時,請保管在自動干燥箱等濕度較低的環(huán)境中。


日本西格瑪光機(jī)低散亂基板表面粗糙度Ra

表示表面粗糙度的定義有JIS B0601規(guī)定,其中被頻繁使用的表面粗糙度的定義為Ra。Ra經(jīng)常以?(埃:0.1nm)單位來表示。由測量值求出平均值,從測量值中減掉平均值得到絕對值,這個絕對值的平均值為Ra,雖與均方根(RMS)近似,但是比RMS稍微小的值。

西格瑪光機(jī)低散亂基片


超光滑基片表面粗糙度測量裝置和測量數(shù)據(jù)(例子):

西格瑪光機(jī)低散亂基片


低散亂平行平面基板/超光滑基片的功能說明圖:

西格瑪光機(jī)低散亂基片


低散亂平行平面基板/超光滑基片的外形圖:

西格瑪光機(jī)低散亂基片


Optosigma低散亂平面基板的規(guī)格參數(shù)表:

平行平面

型號

外徑φD(mm)

厚度t(mm)

材質(zhì)

面型精度

平行度()

表面質(zhì)量

OPSQSP-25.4C05-10-5

φ25.4

5

合成石英

λ/10

5

105

OPSQSP-30C03-10-5

φ30

3

合成石英

λ/10

5

105

OPSQSP-30C05-10-5

φ30

5

合成石英

λ/10

5

105

OPSQSP-50C05-10-5

φ50

5

合成石英

λ/10

5

105

OPCFSP-25.4C05-10-5

φ25.4

5

CaF2

λ/10

5

2010

OPCFSP-30C05-10-5

φ30

5

CaF2

λ/10

5

2010

OPMFSP-25.4C05-10-5

φ25.4

5

MgF2

λ/10

5

2010

OPMFSP-30C05-10-5

φ30

5

MgF2

λ/10

5

2010


平行平面

型號

外徑φD(mm)

厚度t(mm)

材質(zhì)

面型精度

平行度()

表面質(zhì)量

WSSQSP-30C05-10-1

φ30

5

合成石英

λ/10

1°±5

105

WSSQSP-50C08-10-1

φ50

8

合成石英

λ/10

1°±5

105

WSCFSP-30C05-10-1

φ30

5

CaF2

λ/10

1°±5

2010

WSMFSP-30C05-10-1

φ30

5

MgF2

λ/10

1°±5

2010




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