托托科技的無掩模光刻機 灰度光刻功能設(shè)備，巧妙地融合了激光直寫技術(shù)與DMD（數(shù)字微鏡器件）無掩模技術(shù)。這種結(jié)合使得設(shè)備能夠直接在材料表面進行高精度加工。其中，激光直寫技術(shù)通過精確控制激光束，直接在材料上刻畫所需圖案；而DMD無掩模技術(shù)則利用數(shù)字微鏡陣列來投影光束，實現(xiàn)大面積且高分辨率的圖案化加工。

托托科技無掩模光刻機的核心優(yōu)勢之一在于其靈活的設(shè)計，擺脫了對掩模版的依賴。相比傳統(tǒng)的有掩模光刻工藝，這省去了制版所需的時間和金錢成本，極大地幫助用戶加速了想法的驗證過程。此外，該設(shè)備的加工精度可達(dá)400 nm，足以滿足大多數(shù)高精度加工需求。針對大尺寸樣品，它提供高達(dá)1200 mm2/min的加工速度，保障了生產(chǎn)效率。其加工幅面更是可達(dá)2平方米，足以應(yīng)對超大幅面的加工任務(wù)。特別值得一提的是其高達(dá)4096階的灰度光刻能力，這使得設(shè)備能夠精準(zhǔn)地在光刻材料上構(gòu)建出具有高度復(fù)雜且細(xì)膩層次變化的微觀結(jié)構(gòu)或圖案，為微納制造領(lǐng)域帶來了工藝精度與設(shè)計自由度的雙重提升。

除了上述核心功能，托托科技的無掩模光刻機 灰度光刻功能設(shè)備還配備了多項特色功能。“直接繪圖”功能為用戶提供了靈活便捷的操作手段，便于快速驗證設(shè)計構(gòu)想；“精準(zhǔn)套刻”功能利用綠光作為指引，為光刻前的對準(zhǔn)預(yù)覽提供保障，從而實現(xiàn)高精度的套刻；“陣列光刻”功能則幫助用戶快速確認(rèn)工藝參數(shù)，節(jié)約寶貴時間；而“主動對焦”功能則確保每次光刻都能保持聚焦清晰，為光刻前的實時對準(zhǔn)提供了穩(wěn)定的基礎(chǔ)。