Model 30 準(zhǔn)直紫外光源及曝光系統(tǒng)

OAI 的獨(dú)立式紫外泛光曝光系統(tǒng)，適用于深紫外、中紫外或近紫外。系統(tǒng)包括強(qiáng)度控制、雙波長傳感器和精密曝光定時器。從靈活性角度設(shè)計，該系統(tǒng)可用作獨(dú)立單元，集成到晶圓旋轉(zhuǎn)軌道上，或通過使用一個或兩個燈箱以及各種光路方向，以多種其他配置形式使用。在深紫外波段，可實(shí)現(xiàn)單級或多級高分辨率光刻，光譜峰值為 220、260 或 310 納米。近紫外系統(tǒng)功率范圍為 200 至 2000 瓦，深紫外系統(tǒng)為 500 至 2000 瓦 。

燈發(fā)出的能量被導(dǎo)向主介質(zhì)鏡，主介質(zhì)鏡反射所需能量并濾除不需要的輻射。可調(diào)節(jié)的光學(xué)積分器提高能量均勻性，并能控制能量和光束發(fā)散度。能量在曝光平面均勻分布并被準(zhǔn)直。透過副鏡的能量由一個調(diào)諧到所需波長的光學(xué)探測器測量，并傳輸?shù)胶愣◤?qiáng)度控制器，該控制器補(bǔ)償燈的老化和功率波動，將光線控制在 ±2% 以內(nèi)。雙通道控制器可在 0.1 或 1.0 秒的增量下設(shè)置為 0 到 999 秒。

OAI 紫外曝光系統(tǒng)以長期可靠性和高效率著稱。它們的設(shè)計便于從一個波長區(qū)域轉(zhuǎn)換到另一個波長區(qū)域，并有多種帶通鏡組可供選擇 。

應(yīng)用領(lǐng)域

• 光聚合物曝光

• 多層抗蝕劑加工

• 圖像反轉(zhuǎn)

• 邊緣珠（邊緣膠束 ）去除

• 圖像穩(wěn)定化

• 光刻膠輪廓修正

• 晶圓旋轉(zhuǎn)軌道在線加工

• 平板顯示器

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