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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>工藝測量和檢測設備>關鍵尺寸測量設備> 晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012

晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 那諾中國有限公司
  • 品牌
  • 型號
  • 產地
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2025/7/28 23:49:09
  • 訪問次數(shù) 43

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那諾中國有限公司專注于為大中華區(qū)域(包括中國大陸、香港、澳門和中國臺灣)的高校、科研院所、企業(yè)研發(fā)與生產等企業(yè)機構提供高性能、高性價比、定制化的薄膜工藝加工設備及科學分析檢測儀器。


那諾中國提供美國那諾-馬斯特薄膜工藝加工設備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機等)。


那諾中國提供英國KORE基于飛行時間的質譜儀,包含飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)、質子轉移反應(PTR)質譜儀、電子轟擊電離(EI)質譜儀等。





ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機,PA-MOCVD,飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)

晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012是一款非接觸式晶圓厚度測量儀器,可以用于表征晶圓的厚度、TTV、電阻率、P/N摻雜類型,是一款綜合型的測量設備。該型號測量儀適用于200mm和300mm的硅片。

晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012

晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012專為硅片性能表征而設計,集成了非接觸式厚度測量、電阻率檢測及 P/N 型摻雜識別傳感器。除中心測量點外,每半次掃描范圍內最多可設置 15 個附加測量點。設備支持選配 90° 旋轉后重復掃描功能,確保測量全面性。通過串行接口實現(xiàn)與 PC 的數(shù)據通信,配套提供功能強大的 MX-NT 操作軟件。該系統(tǒng)可無縫集成于自動化機器人分選系統(tǒng)中,提升產線智能化水平。


操作原理與機械結構

該測量儀為一款緊湊型臺式設備,專用于對硅片厚度及電阻率進行非接觸式測量。測量過程中,硅片將自動傳送至儀器內部。在傳送路徑上,依次經過兩個電阻率傳感器和一個厚度傳感器,系統(tǒng)可在硅片中心及由測量配方預設的多個位置進行采樣,橫向分辨率達1毫米。硅片可實現(xiàn)自動翻轉,最多支持18次掃描。在頂部指定位置,通過非接觸式P/N型傳感器對摻雜類型進行判定。測量所得數(shù)據經由儀器串行接口傳輸至Windows計算機,由配套軟件進行數(shù)據處理與結果顯示。該軟件同時支持批次數(shù)據管理及報告打印功能(詳見MXNT說明文檔)。


晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012


測量原理

厚度:電容式傳感器

電阻率:渦流原理

摻雜類型:表面光電壓系統(tǒng)


主要技術參數(shù)

晶圓尺寸:200mm,300mm

厚度:600-900μm

最大翹曲:100μm

電阻率:0.001 – 200 Ohm·cm

摻雜類型檢測:0.020 – 200 Ohm·cm

軟件:MXNT






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