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CY-MSH325X-DCDCRF-SS 三靶向上磁控濺射鍍膜儀
參考價(jià) | ¥ 298000 |
訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱(chēng) 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 CYKY
- 型號(hào) CY-MSH325X-DCDCRF-SS
- 產(chǎn)地 鄭州
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/8/5 14:40:19
- 訪問(wèn)次數(shù) 48
磁控濺射鍍膜儀多功能薄膜磁控濺射實(shí)驗(yàn)室磁控濺射儀真空直流磁控濺射鍍膜儀超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
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磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機(jī)旋涂?jī)x,熔煉爐,涂布機(jī),放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機(jī),金剛石線切割機(jī),RTP退火爐,晶體生長(zhǎng)爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機(jī),
產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-30萬(wàn) |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車(chē)及零部件 |
三靶向上磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的高性?xún)r(jià)比磁控濺鍍?cè)O(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、定制化的特點(diǎn)。該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類(lèi)設(shè)備相比,三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛,而且具有體積小、操作方便等優(yōu)點(diǎn)。它是實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。
三靶向上磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSH325X-DCDCRF-SS | |
供電電壓 | AC220V,50Hz | |
整機(jī)功率 | 6KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺(tái) | 外形尺寸 | φ150mm |
加熱溫度 | ≦750℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
靶槍數(shù)量 | 3 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm,高度600mm |
腔體材質(zhì) | SUU304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
開(kāi)啟方式 | 前面開(kāi)啟 | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM | |
真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S | |
膜厚測(cè)量 | 可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 直流電源功率500W*2,射頻電源功率300W | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) | |
真空計(jì) | 電阻規(guī)真空計(jì) | |
設(shè)備尺寸 | 1090mm×900mm×1250mm | |
設(shè)備重量 | 350kg |
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