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CY-MSH500-1-DC-SS 單靶直流磁控濺射鍍膜儀

參考價 159800
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州市開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的研發(fā)團(tuán)隊?wèi){借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的誠信、實力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認(rèn)可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。






磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機旋涂儀,熔煉爐,涂布機,放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機,金剛石線切割機,RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機,

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 10萬-30萬
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,經(jīng)過緊湊化設(shè)計,實現(xiàn)了體積與性能的平衡,造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制,內(nèi)置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手,是一款實驗室制備薄膜的理想設(shè)備。  

單靶為一支強磁靶,所配電源為 11500W 直流電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備。  

直流磁控濺射鍍膜儀配有一路高精度質(zhì)量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標(biāo)配的渦輪分子泵組,極限真空可達(dá) 1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進(jìn)行控制,在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進(jìn)一步提高您的實驗效率。  

 

應(yīng)用范圍:  

 

該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

單靶直流磁控濺射鍍膜儀  

規(guī)格參數(shù):


單靶直流磁控濺射鍍膜儀  

樣品臺  

外形尺寸  

Φ360mm  

可調(diào)轉(zhuǎn)速  

1-20rpm可調(diào)  

磁控靶槍  

靶材平面  

圓形平面靶  

濺射真空  

0.1Pa3Pa  

靶材直徑  

100101.6mm  

靶材厚度  

3mm  

絕緣電壓  

>2000V  

電纜規(guī)格  

SL-16  

靶頭溫度  

65  

真空腔體  

內(nèi)壁處理  

電解拋光  

腔體尺寸  

Φ500mm × 500mm  

腔體材料  

304不銹鋼  

觀察窗口  

石英窗口,直徑φ100mm  

開啟方式  

側(cè)面開啟  

氣體控制  

流量控制  

質(zhì)量流量計,量程0100SCCM  

氣體種類  

可選氬氣、氮氣、氧氣等多種氣體  

調(diào)節(jié)閥類型  

電磁調(diào)節(jié)閥  

調(diào)節(jié)閥靜止?fàn)顟B(tài)  

常閉  

測量線性度  

±1.5%F.S  

測量重復(fù)精度  

±0.2%F.S  

測量響應(yīng)時間  

8秒(T95  

工作壓差范圍  

0.3MPa  

閥體耐壓  

3MPa  

工作環(huán)境溫度  

545)℃  

閥體材料  

不銹鋼316L  

閥體漏率  

1×10-8Pa.m3/s  

管道接頭  

1/4″卡套接頭  

輸入輸出信號  

05V  

供電電源  

±15V(±5%)(+15V  50mA,  15V  200mA  

外形尺寸mm  

130(寬)×102(高)×28(厚)  

通訊接口  

RS485 MODBUS協(xié)議  

直流電源  

電源功率  

1500W  

膜厚測量  

電源要求  

DC:5V(±10%) *大電流 400mA  

分辨率  

±0.03Hz(5-6MHz),0.0136?   /測量()  

測量精度  

±0.5%厚度+1計數(shù)  

測量周期  

100mS1S/次(可設(shè)置)  

測量范圍  

500,000   ? ()  

晶體頻率  

6MHz  

通訊接口  

RS-232/485串行接口  

顯示位數(shù)  

8LED顯示  

分子泵  

分子泵抽速  

1200L/S  

額定轉(zhuǎn)速  

24000rpm  

振動值  

0.1um  

啟動時間  

5min  

停機時間  

7min  

冷卻方式  

水冷+風(fēng)冷  

冷卻水溫度  

37  

冷卻水流速  

1L/min  

安裝方向  

垂直±5°  

抽氣接口  

150CF  

排氣接口  

KF40  

前級泵  

抽氣速率  

VRD-16  

極限真空  

1Pa  

供電電源  

AC:220V/50Hz  

電機功率  

400W  

噪音  

56db  

抽氣接口  

KF40  

排氣接口  

KF25  

閥門  

閘板閥  

真空腔體與分子泵間裝有閘板閥  

切斷閥  

分子泵與前級之間裝有切斷閥  

旁抽閥  

真空腔體與前級之間裝有旁抽閥  

放氣閥  

真空腔體上裝有電磁放氣閥  

整機極限真空  

5×10-4Pa  

測試靶材  

直徑4英寸厚度3mm的鎳靶材1  






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