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CY-SC 單室磁控濺射鍍膜儀

參考價(jià) 210000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州市開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的研發(fā)團(tuán)隊(duì)?wèi){借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時(shí)刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的誠信、實(shí)力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認(rèn)可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。






磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機(jī)旋涂儀,熔煉爐,涂布機(jī),放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機(jī),金剛石線切割機(jī),RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機(jī),

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 10萬-30萬
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

單室磁控濺射鍍膜儀設(shè)備用途:  

用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。  

單室磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):  

 

真空室  

圓型真空室,尺寸? 450×50mm  

真空系統(tǒng)配置  

復(fù)合分子泵、機(jī)械泵、閘板閥  

極限壓力  

6.67*10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)  

恢復(fù)真空時(shí)間  

40 分鐘可達(dá)到6 .6*10-4 Pa 。(系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充入干燥氮?dú)夂箝_始抽氣)  

磁控靶組件  

永磁靶三套;靶材尺寸?60mm(其中一個(gè)可濺射磁性材料);各靶射頻灘射和直流裁射兼容;靶內(nèi)水冷;三個(gè)靶可共同折向上面的樣品中心;靶與樣品距離 90~110mm可調(diào);當(dāng)直接向上濺射時(shí),靶與樣品距離40~80mm可調(diào)  

基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺  

基片結(jié)構(gòu)  

基片加熱與水冷獨(dú)立工作,取下加熱爐可以換上水冷基片臺  

樣品尺寸  

?30mm  

運(yùn)動(dòng)方式  

基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速 5~10 轉(zhuǎn)/分  

加熱  

基片加熱*高溫度600±1  

基片負(fù)偏壓  

200V  

氣路系統(tǒng)  

質(zhì) 控制器 2  

計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)  

控制樣品轉(zhuǎn)動(dòng),擋板開關(guān),靶位確認(rèn)等  

可選配件6工位基片加熱公轉(zhuǎn)臺  

拆下單基片水冷加熱臺可以換上該轉(zhuǎn)臺。可同時(shí)放置630mm的基片;6個(gè)工位中,其中一個(gè)工位安裝加熱爐,其余工位為自然冷卻基片臺;基片加熱*高溫度600 ±1  

設(shè)備占地面積  

主機(jī)  

I300×800mm2  

電控柜  

70×700m2  

免責(zé)聲明:本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考??赡苡捎诟虏患皶r(shí),會(huì)造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異,請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,本公司會(huì)不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您見諒。  





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