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CY-PLC 可程控磁控濺射鍍膜儀

參考價 265000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州市開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的研發(fā)團(tuán)隊(duì)?wèi){借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的誠信、實(shí)力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認(rèn)可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。






磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機(jī)旋涂儀,熔煉爐,涂布機(jī),放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機(jī),金剛石線切割機(jī),RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機(jī),

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 10萬-30萬
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

可程控磁控濺射鍍膜儀由工控機(jī)和PLC實(shí)現(xiàn)控制,有自動和手動控制兩種模式。除取放樣品外,其它操作過程全部在觸摸屏上實(shí)現(xiàn);提供真空系統(tǒng)、濺射工藝設(shè)置、充放氣系統(tǒng)等人機(jī)操作界面;在工控機(jī)上可通過配方設(shè)置參數(shù),實(shí)現(xiàn)對程序工藝過程和設(shè)備參數(shù)的設(shè)置。  

可程控磁控濺射鍍膜儀設(shè)備用途:  

該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、LED和光伏等行業(yè),主要用于各種金屬、半導(dǎo)體及介質(zhì)材料的薄膜制備,可滿足科研兼小批量生產(chǎn)需要。  

磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):  



濺射室極限真空  

8.0×10-6Pa  

恢復(fù)真空時間  

系統(tǒng)從大氣抽至1.0×10-3 Pa15min  

均勻性  

膜厚不均勻性≤±5%;片間不均勻性≤±5%;批次間不均勻性≤±5%  

濺射真空室  

圓筒形結(jié)構(gòu),尺寸Ф800mm×250mm  

磁控濺射系統(tǒng)  

永磁靶4支,靶材尺寸6英寸;  

1臺進(jìn)口電源(射頻或直流脈沖可選);  

濺射速率:0.55/秒(靶材Al  

公轉(zhuǎn)基片臺  

6英寸6片,(4英寸12片或3英寸16片);  

基片公轉(zhuǎn)315轉(zhuǎn)/分,連續(xù)可調(diào),可選配公自轉(zhuǎn)復(fù)合工件臺  

光加熱系統(tǒng)  

樣品加熱溫度:室溫~250℃,連續(xù)可調(diào);  

基片溫度不均勻性:≤±10℃;  

控溫方式為PID自動控溫及數(shù)字顯示,配備進(jìn)口控溫表  

工作氣路  

2路質(zhì)量流量控制器氣路  

抽氣機(jī)組成  

低溫泵(進(jìn)口)、羅茨干泵機(jī)組、氣動閘板閥(進(jìn)口)、管路等  

真空測量  

2個真空計(jì)(進(jìn)口)對系統(tǒng)真空、工作真空及前級真空進(jìn)行**檢測;真空度在工控機(jī)觸膜屏上可直觀顯示;可準(zhǔn)確監(jiān)控濺射鍍膜工藝過程的真空度  

控制系統(tǒng)  

系統(tǒng)由工控機(jī)(觸摸屏)和進(jìn)口PLC實(shí)現(xiàn)對整個系統(tǒng)的控制  

占地面積  

主機(jī)  

1500×1000mm2  

電控柜  

700×700mm2(一個)  

免責(zé)聲明:本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考。可能由于更新不及時,會造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異,請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您見諒。          





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