半導(dǎo)體部件清洗機(jī) 芯矽科技
參考價(jià) | ¥ 10000 |
訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱 蘇州芯矽電子科技有限公司
- 品牌 芯矽科技
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 蘇州市工業(yè)園區(qū)江浦路41號(hào)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/8/5 13:57:28
- 訪問(wèn)次數(shù) 17
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
非標(biāo)定制 | 根據(jù)客戶需求定制 |
---|
半導(dǎo)體部件清洗機(jī)是集成電路制造過(guò)程中至關(guān)重要的核心設(shè)備,專為去除晶圓、掩膜版、封裝基板等精密元件表面的各類污染物而設(shè)計(jì)。它通過(guò)精準(zhǔn)控制的化學(xué)作用與物理效應(yīng)協(xié)同工作,確保后續(xù)工藝(如光刻、沉積、鍵合)的高良率和長(zhǎng)期可靠性。以下是對(duì)該設(shè)備的全面解析:
一、核心功能與技術(shù)原理
該設(shè)備基于濕法清洗工藝,采用模塊化槽體結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)多步驟連續(xù)處理。典型流程包括預(yù)浸潤(rùn)→主清洗→超聲輔助剝離→純水漂洗→干燥等階段。其核心技術(shù)優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)在:
化學(xué)配方兼容性強(qiáng):支持SC-1(NH?OH/H?O?/DIW)、SC-2(HCl/H?O?/DIW)等標(biāo)準(zhǔn)RCA溶液體系,可有效分解有機(jī)物、溶解金屬雜質(zhì)并氧化去除表面氧化層;同時(shí)兼容TMAH(四甲基氫氧化銨)、HF稀溶液等特種藥劑以滿足不同材料需求。
能量場(chǎng)增強(qiáng)效應(yīng):集成兆聲波振動(dòng)模塊產(chǎn)生高頻微射流,能穿透微觀結(jié)構(gòu)形成空化氣泡,強(qiáng)力剝離納米級(jí)顆粒而不損傷器件鈍化層;部分機(jī)型還配備微波輔助功能加速化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)進(jìn)程。
動(dòng)態(tài)流體控制技術(shù):采用層流噴淋與底部溢流相結(jié)合的方式,配合旋轉(zhuǎn)卡盤實(shí)現(xiàn)360°覆蓋,特別適用于凹凸拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的三維清洗場(chǎng)景。
二、系統(tǒng)架構(gòu)與創(chuàng)新設(shè)計(jì)
智能化控制系統(tǒng)
搭載工業(yè)級(jí)PLC與觸摸屏HMI界面,支持工藝參數(shù)實(shí)時(shí)監(jiān)控及歷史數(shù)據(jù)追溯。用戶可通過(guò)配方管理功能快速切換不同產(chǎn)品的清洗程序,系統(tǒng)自動(dòng)記錄溫度曲線、pH值波動(dòng)及N?吹掃強(qiáng)度等關(guān)鍵指標(biāo)。AI算法根據(jù)傳感器反饋動(dòng)態(tài)調(diào)整藥劑添加量,確保批次間穩(wěn)定性偏差小于±5%。
環(huán)保節(jié)能方案
閉路循環(huán)系統(tǒng)將使用過(guò)的DI水經(jīng)活性炭過(guò)濾、UV殺菌后重新注入漂洗槽,回收率達(dá)85%以上;廢液收集裝置采用分級(jí)沉淀技術(shù)分離重金屬離子,減少危廢處置成本。熱能回收單元利用設(shè)備自身產(chǎn)熱預(yù)熱新鮮流入液體,降低能耗約30%。
高兼容性載具系統(tǒng)
模塊化設(shè)計(jì)的花籃式載具可適配4英寸至12英寸各種規(guī)格的晶圓片,邊緣保護(hù)結(jié)構(gòu)防止薄片翹曲變形。針對(duì)異形工件(如FOUPS、TO封裝器件),定制化夾具可實(shí)現(xiàn)多角度定位清洗。
三、典型應(yīng)用場(chǎng)景
應(yīng)用領(lǐng)域 | 清洗對(duì)象 | 主要污染物類型 | 工藝挑戰(zhàn) | 解決方案亮點(diǎn) |
---|---|---|---|---|
前道工序 | 硅片/化合物半導(dǎo)體 | 自然氧化層、光刻膠殘留 | 原子級(jí)潔凈度要求 | 超純化學(xué)品+兆聲波聯(lián)用 |
封裝 | 倒裝芯片凸點(diǎn) | 助焊劑通孔堵塞 | 微米級(jí)間隙清潔 | 脈沖噴射+真空抽吸復(fù)合模式 |
失效分析 | 去層后的裸芯片 | 鈍化層碎片、離子遷移痕跡 | 非破壞性檢測(cè)兼容性 | 溫和模式低功率超聲 |
四、性能優(yōu)勢(shì)對(duì)比表
指標(biāo) | 傳統(tǒng)設(shè)備基準(zhǔn)值 | 本機(jī)提升幅度 | 實(shí)際效益 |
---|---|---|---|
單片處理時(shí)間 | 15min/wafer | 縮短至8min以內(nèi) | 產(chǎn)能提高近一倍 |
顆粒去除效率(≥0.5μm) | 99.3% | >99.99% | 缺陷密度下降兩個(gè)數(shù)量級(jí) |
DI水消耗量 | 2L/wafer | ≤0.8L/wafer | 年節(jié)水成本超萬(wàn)元級(jí) |
交叉污染率 | <0.1ppm | <0.01ppm | 避免批次間串?dāng)_風(fēng)險(xiǎn) |
五、行業(yè)認(rèn)證與服務(wù)支持
設(shè)備符合SEMI G47標(biāo)準(zhǔn)及ISO Class 1潔凈室要求,關(guān)鍵部件通過(guò)CE認(rèn)證。制造商提供從安裝調(diào)試到預(yù)防性維護(hù)的全生命周期服務(wù),包括:
遠(yuǎn)程診斷系統(tǒng):物聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)關(guān)實(shí)時(shí)上傳設(shè)備健康狀態(tài),預(yù)判性更換易損件;
工藝優(yōu)化指導(dǎo):工程師團(tuán)隊(duì)協(xié)助客戶建立DOE實(shí)驗(yàn)?zāi)P?,?yōu)化清洗窗口;