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徠卡顯微系統(tǒng)(上海)貿易有限公司

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MX61L 日本12英寸晶圓金相顯微鏡

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 克拉克中國有限公司
  • 品牌
  • 型號 MX61L
  • 產地
  • 廠商性質 經銷商
  • 更新時間 2017/12/30 3:10:04
  • 訪問次數(shù) 246

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


克拉克中國有限公司公司從事可靠性測試設備的銷售和測試服務。
一、金屬鑄件,巖石,橡膠輪胎等檢測: 工業(yè)CT,計算機斷層掃描,X射線實時成像系統(tǒng),X光機,透視機。( 工業(yè)CT高精度計算機斷層掃描系統(tǒng)鑄件密度分割容積計算空間分布 ) HISOMET測量顯微鏡 MX61L金相顯微鏡
二、 耗材: 磁粉探傷,滲透探傷
         磁粉探傷:磁粉對導磁材料鋼,鐵,鈷,鎳等,材料表面微小裂紋的檢測。 如,發(fā)動機,軸承,鋼管的表面裂紋的快速檢測。
          滲透探傷包括熒光法和著色法。熒光法是將含有熒光物質的滲透液涂敷在被探傷件表面,通過毛細作用滲入表面缺陷中,然后清洗去表面的滲透液,將缺陷中的滲透液保留下來,進行顯象。典型的顯象方法是將均勻的白色粉末撒在被探傷件表面,將滲透液從缺陷處吸出并擴展到表面。這時,在暗處用紫外線燈照射表面,缺陷處發(fā)出明亮的熒光。 著色法與熒光法相似,只是滲透液內不含熒光物質,而含著色染料,使?jié)B透液鮮明可見,可在白光或日光下檢查。

三。環(huán)境可靠性試驗   工業(yè)冷熱沖擊箱、工業(yè)烤箱、恒溫恒濕實驗箱、溫濕度循環(huán)實驗箱、工業(yè)壓力鍋蒸煮實驗箱。

四、電子行業(yè)的失效分析設備銷售及測試服務
芯片分析手段匯總(微焦點xray,csam;DECAP)
芯片分析手段有:1   C-SAM(超聲掃描),無損檢查:1.材料內部的晶格結構,雜質顆粒.夾雜物.沉淀物.2. 內部裂紋. 3.分層缺陷.4.空洞,氣泡,空隙等.
2   微焦點XRay  用途:半導體BGA,線路板等內部位移的分析 ;利于判別空焊,虛焊等BGA焊接缺陷
   XRAY:微焦點X射線可以穿過塑封料并對包封內部的金屬部件成像,因此,它特別適用于評價由流動誘導應力引起的引線變形 在電路測試中,引線斷裂的結果是開路,而引線交叉或引線壓在芯片焊盤的邊緣上或芯片的金屬布線上,則表現(xiàn)為短路。X射線分析也評估氣泡的產生和位置,塑封料中那些直徑大于1毫米的大空洞,很容易探測到. ), 德國Feinfocus
3   SEM掃描電鏡/EDX能量彌散X光儀(材料結構分析/缺陷觀察,元素組成常規(guī)微區(qū)分析,精確測量元器件尺寸), 日本電子
4   EMMI微光顯微鏡/OBIRCH鐳射光束誘發(fā)阻抗值變化測試/LC 液晶熱點偵測(這三者屬于常用漏電流路徑分析手段,尋找發(fā)熱點,LC要借助探針臺,示波器),
5   FIB做一些電路修改;
6   Probe Station 探針臺/Probing Test 探針測試,ESD/Latch-up靜電放電/閂鎖效用測試(有些客戶是在芯片流入客戶端之前就進行這兩項可靠度測試,有些客戶是失效發(fā)生后才想到要篩取良片送驗)這些已經提到了多數(shù)常用手段。失效分析前還有一些必要的樣品處理過程,取die,decap(開封,開帽),研磨,去金球 De-gold bump,去層,染色等,有些也需要相應的儀器機臺,SEM可以查看die表面,SAM以及X-Ray觀察封裝內部情況以及分層失效。

歡迎索取資料哦。四海內皆朋友 clack  15989565652   15989565652@139.com  除了常用手段之外還有其他一些失效分析手段,原子力顯微鏡AFM ,二次離子質譜 SIMS,飛行時間質譜TOF - SIMS ,透射電鏡TEM , 場發(fā)射電鏡,場發(fā)射掃描俄歇探針, X 光電子能譜XPS ,L-I-V測試系統(tǒng),能量損失 X 光微區(qū)分析系統(tǒng)等很多手段,不過這些項目不是很常用。
FA步驟:
     1   一般先做外觀檢查,看看有沒有crack,burnt mark 什么的,拍照;
      2   非破壞性分析:主要是超聲波掃描顯微鏡(C-SAM)--看有沒delamination,xray--看內部結構,等等; 3   電測:主要工具,萬用表,示波器,sony tek370a,現(xiàn)在好象是370b了;
      4   破壞性分析:機械decap,化學 decap 芯片開封機
微焦點Xray用途:半導體BGA,線路板等內部位移的分析 ;利于判別空焊,虛焊等BGA焊接缺陷.   參數(shù):標準檢測分辨率<500納米 ; 幾何放大倍數(shù): 2000 倍 較大放大倍數(shù): 10000倍 ;  輻射小: 每小時低于1 μSv ; 電壓: 160 KV, 開放式射線管設計防碰撞設計;BGA和SMT(QFP)自動分析軟件,空隙計算軟件,通用缺陷自動識別軟件和視頻記錄。這些特點非常適合進行各種二維檢測和三維微焦點計算機斷層掃描(μCT)應用。

芯片開封機DECAP 主要用于芯片開封驗證SAM,XRAY的結果。 DECAP有化學開封和激光開封,兩者區(qū)別在于激光開封可以開封銅線,但后者價格貴些
工業(yè)CT高精度計算機斷層掃描系統(tǒng)鑄件密度分割容積計算空間分布三維重構主要特點: 工業(yè)CT是采用機算計斷層掃描技術對產品進行無損檢測(NDT)和無損評價(NDE)的Z佳手段,ICT技術能準確地再現(xiàn)物體內部的三維立體結構,能夠定量地提供物體內部的物理、力學等特性,如缺陷的位置及尺寸、密度的變化及水平、異型結構的型狀及精確尺寸,物體內部的雜質及分布等。
X射線實時成像檢測系統(tǒng): 主要應用領域,金屬鑄件,塑料橡膠等。本系列產品對于不同形狀和大小,鋼、鋁、陶瓷、復合材料或橡膠等不同材料的工件均可提供高質量的實時監(jiān)測內部裂紋、分層等。

工業(yè)CT,X射線實時成像系統(tǒng),微焦點XRAY,磁粉探傷,滲透探傷,X射線實時成像檢測系統(tǒng),納米CT,金相顯微鏡

日本12英寸晶圓金相顯微鏡,產地:日本
MX61L是對應300  mm晶圓和17英寸FPD玻璃基板的電動型號(反射透射兼用),可以應對明視場觀察到熒光觀察的多種觀察方法。切換物鏡時自動調節(jié)連動的亮度光圈等,實現(xiàn)了舒適的檢查環(huán)境。配備14×12英寸載物臺,能應對大型樣本。大型載物臺搭載:可用于400*300mm液晶基板,300mm晶圓全面檢查(MX61L)


半導體/FPD檢查顯微鏡  MX61L  規(guī)格
光學系統(tǒng)  UIS2光學系統(tǒng)(無限遠校正)  
機身  觀察方法      明視場/暗視場/微分干涉/簡易偏振光/熒光  
    反射/透射      反射/透射  
    照明裝置      機身一體型(明視場,暗視場+1選件)  
    照明系統(tǒng)  反射照明  100  W鹵素/100  W水銀/75  W氙  
        透射照明  纖維光導  
    對焦單元  電動/手動  手動  
        行程  32  mm  
        分辨率/微調靈敏度  微調旋鈕轉動1周移動0.1  mm  
        zui大樣本高度  30  mm  
    物鏡轉換器  電動型  明視場微分干涉6孔  
明暗視場微分干涉5孔  
明暗視場微分干涉6孔  
明暗視場微分干涉中心輸出5孔  
        手動式  -  
載物臺  行程      14×12  英寸右下手柄:356(X)×305(Y)mm(透射照明范圍356×284  mm)  
觀察筒  廣角視場(視場數(shù)22)  倒置  雙目/三目觀察筒  
        正像  三目觀察筒  
    超寬視場(視場數(shù)26.5)  倒置  三目觀察筒  
        正像  傾斜三目觀察筒  
附件單元  DUV單元/IR單元/電動載物臺/自動裝載  
外形尺寸  710(W)×843(D)×507(H)mm(標準組合)  
重量  51  kg(標準組合)  


大型載物臺搭載:可用于400*300mm液晶基板,300mm晶圓全面檢查(MX61L

     @139.com

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