CVD管式爐應(yīng)用及其特點(diǎn)

閱讀：9486發(fā)布時間：2016-5-31

　　CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

　　應(yīng)用領(lǐng)域：

　　CVD系列真空氣氛管式爐廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝。

　　例如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長等等；也可適用于金屬材料的擴(kuò)展焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理。

　　CVD管式爐主要特點(diǎn)：

　　1.采用高純石英管或剛玉管作為內(nèi)爐膛。

　　2.可拆卸式的三面密封方式，具有良好的潔凈度和真空度；耐火，保溫材料全部采用的輕質(zhì)纖維制品，整機(jī)質(zhì)量輕、能耗低；加熱元件采用U型硅鋁(碳)棒或*電阻絲；

　　3.CVD系列真空氣氛管式爐溫控系統(tǒng)采用進(jìn)口多段智能程序溫度控制儀控制，溫度控制具有良好的穩(wěn)定性、重復(fù)性。

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