產(chǎn)品名稱：FSM413 紅外干涉厚度測(cè)量設(shè)備

產(chǎn)品型號(hào)：FSM 413EC, FSM 413MOT，F(xiàn)SM 413SA DP FSM 413C2C, FSM 8108 VITE C2C

1.  簡(jiǎn)單介紹

FSM 128 薄膜應(yīng)力及基底翹曲測(cè)試設(shè)備:美國(guó)Frontier Semiconductor(FSM)成立于1988年，總部位于圣何塞，多年來(lái)為半導(dǎo)體行業(yè)等高新行業(yè)提供各式精密的測(cè)量設(shè)備，客戶遍布*,主要產(chǎn)品包括:光學(xué)測(cè)量設(shè)備:三維輪廓儀、拉曼光譜、 薄膜應(yīng)力測(cè)量設(shè)備、 紅外干涉厚度測(cè)量設(shè)備、電學(xué)測(cè)量設(shè)備:高溫四探針測(cè)量設(shè)備、非接觸式片電阻及 漏電流測(cè)量設(shè)備、金屬污染分析、等效氧化層厚度分析(EOT)

2.  FSM413紅外激光測(cè)厚儀產(chǎn)品簡(jiǎn)介

FSM 413 紅外干涉測(cè)量設(shè)備

1)   利紅外干涉測(cè)量技術(shù),非接觸式測(cè)量

2)   適用于所有可讓紅外線通過(guò)的材料

硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物…

3.  FSM413紅外激光測(cè)厚儀應(yīng)用

1.襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)

2.平整度

3.厚度變化(TTV)

4.溝槽深度

5.過(guò)孔尺寸、深度、側(cè)壁角度

6.粗糙度

7.薄膜厚度

8.環(huán)氧樹脂厚度

9.襯底翹曲度

10.晶圓凸點(diǎn)高度(bump height)

11.MEMS 薄膜測(cè)量

12.TSV 深度、側(cè)壁角度…

TSV測(cè)試

TTV應(yīng)用

4.  規(guī)格

1)   測(cè)量方式:紅外干涉(非接觸式)

2)   樣本尺寸:  50、75、100、200、300 mm， 也可以訂做客戶需要的產(chǎn)品尺寸

3)   測(cè)量厚度: 15—780μm (單探頭)

      3 mm (雙探頭總厚度測(cè)量)

4)   掃瞄方式:半自動(dòng)及全自動(dòng)型號(hào),

     另2D/3D掃瞄(Mapping)可選

5)   襯底厚度測(cè)量: TTV、平均值、*小值、*大值、公差。

6)   粗糙度: 20—1000? (RMS)

7)   重復(fù)性: 0.1μm (1 sigma)單探頭*

      0.8 μm (1 sigma)雙探頭*

8)   分辨率: 10 nm

9)   設(shè)備尺寸:

413-200: 26"(W) x 38" (D) x 56" (H)

413-300: 32"(W) x 46" (D) x 66" (H)

10) 重量: 500 lbs

11) 電源: 110V/220VAC    

12) 真空: 100 mm Hg

13) 樣本表面光滑（一般粗糙度小于0.1μm RMS)

150μm厚硅片（沒圖案、雙面拋光并沒有摻雜）