納米壓痕儀支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。
納米壓痕儀簡介：
該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。
EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。
對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機制。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。
納米壓痕儀技術數據：
1) 晶圓直徑（基板尺寸）
2) 標準光刻：碎片蕞大150毫米
3) 柔軟的UV-NIL：蕞大150毫米的碎片
4) 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
5) 支持流程：柔軟的UV-NIL
6) 曝光源：汞光源或紫外線LED光源
7) 自動分離功能：不支持
8) 工作印章制作：外部
納米壓痕儀特征：
1) 頂部和底部對準能力
2) 高精度對準臺
3) 自動楔形誤差補償機制
4) 電動和配方控制的曝光間隙
5) 支持新的UV-LED技術
6) 蕞小化系統占地面積和設施要求
7) 分步流程指導
8) 遠程技術支持
9) 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
11) 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
納米壓痕儀主要應用：
具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統，支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。
附加功能：
1) 鍵對準
2) 紅外對中
3) 納米壓印光刻
4) 微接觸印刷
納米壓印工藝結果：
圖1 微鏡頭
圖2 納米壓印結果（100納米分辨率）
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