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XRF-2000

閱讀:536        發(fā)布時(shí)間:2017-4-6

熒光X-射線儀器的測(cè)量原理

物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后,由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài),此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái),而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度,來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。

 

鍍層厚度的測(cè)量方法可分為標(biāo)準(zhǔn)曲線法和FP法(理論演算方法)              

 底材的熒光X射線

2種。標(biāo)準(zhǔn)曲線法是測(cè)量已知厚度或組成的標(biāo)準(zhǔn)樣品,根據(jù)熒光                     

X射線的能量和強(qiáng)度及相應(yīng)鍍層厚度的對(duì)應(yīng)關(guān)系,來(lái)得到標(biāo)準(zhǔn)曲線。   

之后以此標(biāo)準(zhǔn)曲線來(lái)測(cè)量未知樣品,以得到鍍層厚度或組成比率。

FP法即是Fundamental Parameter Method的簡(jiǎn)稱,即基本參數(shù)法

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