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這款手動光譜橢偏儀是一種手動變角光譜橢偏儀和深紫外光譜橢偏儀,具有250-1100nm的波長范圍，手動改變入射角。手動spectroscopic ellipsometer光譜范圍覆蓋從深紫外到可見光再到近紅外.深紫外波長非常適合測量超薄薄膜，比如納米厚度薄膜測量,硅晶圓薄膜厚度測量，典型值在2nm左右。對于測量許多材料的帶隙，深紫外光譜橢偏儀也非常重要。
橢圓偏振技術是通過研究光束在樣本表面反射后偏振態(tài)變化而獲得表面薄膜厚度等信息的薄膜測量技術。
與反射計或反射光譜技術不同的是，光譜橢偏儀參數Psi 和Del并非在常見入射角下獲得。通過改變入射角大小，可獲得許多組數據，這樣就非常有助于優(yōu)化橢偏儀測量薄膜或樣本表面的能力，因此變角橢偏儀功能遠遠大于固定角橢偏儀。
改變橢偏儀入射角的方法有兩種，一種是手動調節(jié)，一種是自動調節(jié)入射角，我們可提供兩種模式的橢偏儀。
手動光譜橢偏儀SE200BM特色
易于安裝，拆卸和維護
良好的光學設計
自動改變入射角，入射角分辨率高達0.01度
高功率250-1100nm光源適合多種應用
采用陣列探測器確保高速測量
測量薄膜膜堆的薄膜厚度和折射率
可用于實或在線監(jiān)測薄膜厚度和折射率
具有齊全的光學常數數據庫
提供工程師模式，服務模式和用戶模式三種使用模式
靈活的工程師模式用于各種安裝設置和光學模型測量
一鍵快速測量
全自動標定和初始化
精密樣品準直界面直接樣品準直，不需要額外光學
精密高度和傾斜調整
適合不同材料和不同后的樣品襯底基片
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