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邁可諾技術有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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回顧MichaelCratzel教授參加的2019年GYSS-分子光伏和鈣鈦礦太陽能電池會議
鈣鈦礦領域大牛-分享制作鈣鈦礦方法
臺式狹縫涂布機涂布系統(tǒng)主要包括供料單元和涂布單元，涂布單元是通過利用精密機械加工所制作的上下模及安裝在上下模間的薄墊片所組成，供料單元由儲料、輸送的注射泵及過濾裝置等組成。系統(tǒng)由涂布模具相對于基片作準...
恩科優(yōu)光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，NXQ4000系列光刻機是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統(tǒng)，穩(wěn)定的接近式和接觸式光刻及超高的性價比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被...
為了獲得大的過程可靠性，在涂覆SU-82000抗蝕劑之前，基材應清潔干燥。為了獲得很好的結果，應使用食人魚濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后用去離子水沖洗。基材也可以使用反應離子蝕刻進...
鈣鈦礦太陽能電池制備涂膜工藝業(yè)內(nèi)選Laurell勻膠機，從1985年開始，30多年業(yè)內(nèi)，用戶超百萬！廣泛應用于鈣鈦礦太陽能電池薄膜制備，現(xiàn)當前的型號WS-650-23B勻膠機，在任何一個著名的實驗室可...
等離子清洗機，你想知道的都在這里（一）Q：發(fā)現(xiàn)試驗效果不佳，怎么辦？A：請查看泵油顏色是否暗淡，污濁，并及時更換泵油。Q：設備不起輝光怎么辦？A：1.射頻燈未能提供射頻；2.密封性可能存在漏氣問題。Q...
光刻膠的顯影和光刻工藝今天小編要跟大家簡要介紹關于光刻膠的顯影過程和光刻工藝處理的一些相關內(nèi)容。光刻工藝可用五個指標來衡量其效果：分辨率、靈敏度、套刻對準精度、缺陷率和硅片加工過程處理問題，其中有3個...
Laurell高精度WS-650-8型勻膠旋涂儀，可滿足Z大200mm直徑的晶圓片和7"×7"(178mm×178mm)的方片的高精度涂敷。勻膠機(英文名：SpinCoater)適合半導體硅片的勻膠鍍...
HarrickPlasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設備。Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。Harrick等離...
4122手動加熱型壓片機主要特點帶數(shù)字溫度控制和安全防護罩的加熱型壓片機CARVER手動加熱型壓片機，配有程序控溫模塊，安全視窗。Z高壓力包括12噸、25噸和30噸三個型號。廣泛適用于各種材料的成型、...
帶數(shù)字溫度控制和安全防護罩的加熱型壓片機CARVER手動加熱型壓片機，配有程序控溫模塊，安全視窗。高壓力包括12噸、25噸和30噸三個型號。廣泛適用于各種材料的成型、層壓、壓紋及黏結等。4386(CH...
