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電位滴定法測定電渡槽液中的Cu2+含量
應(yīng)用領(lǐng)域： 電鍍
用戶信息： 甘肅金川科技
關(guān)鍵詞： 905，電位滴定法，電鍍槽液，Cu2+
樣品： 鎳電渡槽液，墨綠色透明液體
設(shè)備和附件：
905 Titrando, 801 Stirrer, 800 Dosino
6.0431.100 Pt Titrode
樣品處理：
c(Na2S2O3) = 0.1mol/L
c(H2SO4) = 2mol/L
輔助溶液: w(KI)=10% plus w(KCNS)=20%
樣品分析：
在滴定杯中倒入50mL 樣品，加入10mL H2SO4 溶液和5mL 輔助溶液，
等一小段時(shí)間后，以Na2S2O3 滴定所得溶液，以Pt Titrode 為指示電
極。*個(gè)等當(dāng)點(diǎn)對(duì)應(yīng)Cu2+含量。
分析結(jié)果：
Sample1：0.4343 g/L , 0.4344 g/L RSD=0.02%
Sample2：0.4299 g/L， 0.4303 g/L RSD=0.07%
Sample3：0.4365 g/L， 0.4371 g/L RSD=0.10%
Sample4：0.4456 g/L， 0.4452 g/L RSD=0.06%
Sample5：0.4359 g/L， 0.4370 g/L， 0.4362 g/L RSD=0.13%
0.5 g/L Cu2+標(biāo)準(zhǔn)溶液：0.4958 g/L
備注： 無
典型譜圖：