W2-MKII沉淀研究儀器

采用臺(tái)式底座和背景燈光，使觀察更方便。該設(shè)備用于研究沉淀的基本物理過程，包括地帶形成和受阻
沉淀。

· 產(chǎn)品特點(diǎn)

演示性能：

· 起始濃度對(duì)沉降速度的影響

· 從單一的批處理測試過程中構(gòu)建沉降速度曲線

· 起始懸浮物高度對(duì)沉降速度的影響

· 顆粒尺寸分布的影響

· 絮凝化添加劑的使用

· 產(chǎn)品描述

· 描述：

· 沉降過程被廣泛使用在水和廢水凈化過程中。依靠懸浮物的濃度和粒子特征，粒子以不同的方式從懸浮物中沉降。簡單的沉降類型是一種稀釋的粒子懸浮物沉降，該粒子很少或沒有趨勢絮凝化。在這些情況下，凈化速度的預(yù)測和擴(kuò)展到工廠規(guī)模的設(shè)計(jì)是直接相關(guān)的。

· 對(duì)較高濃度的液體而言，內(nèi)部粒子效果很重要并且可能凝塊，發(fā)生不同的沉降速度狀況，如圖1中的各種“區(qū)域"。來自于這樣系統(tǒng)的批處理測試的信息形成了最佳化設(shè)計(jì)研究和工業(yè)沉降缸操作的重要部分。

· Armfield沉降研究裝置可以對(duì)任一選擇好的沉淀/水系統(tǒng)的這些不同特征進(jìn)行演示。

· 五個(gè)同樣大小的玻璃柱垂直安裝在背板上組成測量規(guī)模。每個(gè)柱子都可以從背板上移走進(jìn)行清洗，填充和固體顆粒的混合。包含不同數(shù)量懸浮物的溶液放入不同的柱子內(nèi)，以時(shí)間為標(biāo)準(zhǔn)，測量各種固溶體/液體交界面的高度改變情況來觀察不同的沉降速度。（如圖2）

· 作為一個(gè)完整的設(shè)備該單元包含如下備附件：

· 定時(shí)器，2L容量的3個(gè)燒杯，特定的重力瓶。

· 一個(gè)精確的天平用于對(duì)固溶體的測量（不提供）。

· 整個(gè)設(shè)備是臺(tái)式的并提供背光。

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· 訂購說明：

· l 5個(gè)有刻度的，1m長×51mm圓孔直徑的圓柱垂直安裝在一個(gè)背板上。

· l 圓柱體通過背光被照明并且可拆解進(jìn)行清洗。

· l 提供的附件包括： 定時(shí)器，2L容量的3個(gè)燒杯，特定的重力瓶。

· l 驗(yàn)證性能：

· 1. 起始濃度對(duì)沉降速度的影響。

· 2. 從單一的批處理測試過程中構(gòu)建沉降速度曲線。

· 3. 起始懸浮物高度對(duì)沉降速度的影響。

· 4. 顆粒尺寸分布的影響。

· 5. 絮凝化添加劑的使用。

· 技術(shù)參數(shù)

· 電力供應(yīng)：

· W2-A：220-240v/1ph/50HZ

· W2-B：120v/1ph/60HZ

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· 可選附件：

· (不提供)

· 三重杠桿天平

· 量程：2610g

· 靈敏度：0.1g

· 皮重：225g

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· 尺寸：

· 高度：1140mm

· 寬度：700mm

· 長度：430mm

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· 運(yùn)輸規(guī)格：

· 體積：0.8立方米

· 毛重：90公斤