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HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部

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當(dāng)前位置:> 供求商機(jī)> UVISEL 2 VUV 真空紫外橢偏儀

[供應(yīng)]UVISEL 2 VUV 真空紫外橢偏儀

貨物所在地:國(guó)外

更新時(shí)間:2024-12-11 21:00:06

有效期:2024年12月11日 -- 2025年6月11日

已獲點(diǎn)擊:283

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專為VUV 測(cè)量設(shè)計(jì),整個(gè)系統(tǒng)處于真空狀態(tài),無氧氣吸收。具備高度準(zhǔn)確性;*的超快測(cè)量速度;快速樣品室抽真空能力,方便快速更換樣品;氮?dú)庀牧可佟?

    專為VUV 測(cè)量設(shè)計(jì),整個(gè)系統(tǒng)處于真空狀態(tài),無氧氣吸收。具備高度準(zhǔn)確性;*的超快測(cè)量速度;快速樣品室抽真空能力,方便快速更換樣品;氮?dú)庀牧可佟?/span>

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產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 50KHz 高頻PEM 相位調(diào)制技術(shù)

  • 45 秒內(nèi)完成充氮?dú)?/span>

  • 2 分鐘內(nèi)完成樣品室抽真空

  • 8 分鐘內(nèi)完成光譜全譜范圍內(nèi)測(cè)量

  • 兩種工作模式:氮?dú)馇逑唇Y(jié)合抽

  • 真空、連續(xù)氮?dú)馇逑?/span>

  • 光譜范圍:147nm~850nm;147nm~2100nm

 

 

重點(diǎn)應(yīng)用領(lǐng)域

  • 超薄膜

  • 157nm 光刻新材料

  • 有機(jī)材料、高分子材料

  • 高k 材料:HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz

  • 抗反射涂層

  • 半導(dǎo)體和介電材料電子躍遷

  • MgF2、CaF2、LaF3

 

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