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貨物所在地：北京北京市
更新時間：2025-04-11 15:11:48
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退火爐是用于制造半導(dǎo)體元件的制程方法。該制程包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達(dá)到不同的效果。可以加熱晶片以激活摻雜劑，使沉積的膜至密化，并改變生長的膜的狀態(tài)。暴露在高溫下可以修復(fù)損壞。該過程稱為退火。 爐子退火可以集成到其他爐子處理步驟中，例如氧化，也可以單獨處理。
退火爐技術(shù)參數(shù)
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點 | 選件 |
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(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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