等離子清洗機(jī)是一種新型的低成本、高性能、實驗性反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，手動裝載晶圓片，應(yīng)用于單片晶圓刻蝕、殘膠去除及表面清洗工藝，可滿足小型晶圓廠、大學(xué)實驗室、初創(chuàng)公司的使用需求。等離子清洗設(shè)備采用觸摸屏+PLC全自動控制，憑借其時尚、緊湊的設(shè)計，只需占用很小的潔凈室空間，使用維護(hù)簡單方便。

等離子清洗機(jī)能清潔晶圓、達(dá)到對材料改性、光刻膠灰化等目的。等離子清洗機(jī)也適于處理復(fù)雜的曲面或溝槽，處理對象包括：聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙乙烯(PS)、高抗沖聚丙乙烯(HIPS) 、ABS、PC、EPDM、聚酯(PET、APET)、聚氨酯(PUL)、聚甲醛、乙烯基、尼龍、(硅)橡膠、有機(jī)玻璃等各種高分子材料、電線、電纜、光纜、汽車密封條及玻璃、陶瓷和金屬。

等離子清洗機(jī)能去除硅膠片上元件表面的光敏有機(jī)資料制造的光刻膠。在堆積工藝開端前，需求將殘留的光刻膠去除潔凈。傳統(tǒng)的去膠辦法采熱的硫酸和過氧化氫溶液，或其他的有毒的有機(jī)溶劑。但是，運(yùn)用等離子清洗機(jī)清洗能夠用三氧化硫等氣體去膠，這種辦法削減了對化學(xué)溶劑和有機(jī)溶劑的依賴。關(guān)于一般的制造廠來說，選用等離子體清洗機(jī)去膠可使化學(xué)溶液的運(yùn)用量削減1000倍，不只環(huán)保，還能為企業(yè)節(jié)約大量資金。

等離子清洗機(jī)功能主要依靠等離子中活性顆粒的“活化"來清除物體表面污漬。從機(jī)理上講，等離子體清洗一般包括下列過程：無機(jī)氣體被激發(fā)到等離子體狀態(tài)；固體表面吸附氣相物質(zhì)；吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；主要是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、活化和表面準(zhǔn)備等。