多靶磁控濺射鍍膜機 型號：YQDH-500JJC 貨號：ZH5498 
產品簡介
  該鍍膜機主于科研實驗，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-種硬質膜，光學膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導體膜，介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
  該鍍膜機為前開門式設計，功能強，鍍膜穩(wěn)定，重復性好，操作簡便。真空室材料均采用優(yōu)良材SUS304不繡鋼材料制造，規(guī)范，，了材料的成膜度。
  采用分子泵+直聯(lián)機械泵機組，具有抽速快，油，操作方便快捷，易于維護的特點。
1     鍍膜方式：可實現(xiàn)多靶共濺模式
2     磁控靶：圓柱/平面靶；
3     進氣系統(tǒng)：三路流量計；
4     鍍膜室體積：500×500×600mm3
5     限真空度：6.7×10-5Pa; 恢復真空度：從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞
6     真空抽氣系統(tǒng)：機械泵與分子泵組成；
7     真空測量系統(tǒng)：數顯復合真空計；
8     工作電源：真流電源500W；射頻電源500W﹝13.56MHz﹞；加熱控溫電源；
9     工作烘烤溫度：室溫～800℃可控可調﹝PID控溫﹞；
10    選配件：石英晶振測厚儀，冷卻水機組等；
11    供電電源：三相AC380V，50Hz