在當(dāng)今工業(yè)界，材料清洗是確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能的關(guān)鍵一環(huán)。雖然傳統(tǒng)的溶劑清洗一度在污染物處理方面表現(xiàn)出色，但卻常常難逃環(huán)境負(fù)擔(dān)和基材腐蝕等問題。近年來，等離子清洗作為一項前沿技術(shù)，正日益迅猛地受到矚目。這項技術(shù)不僅消除了使用有害濕化學(xué)方法的需求，還能夠高效清除那些狹窄隙縫和隱蔽腔體中的污染物。
ATTO等離子清洗器，一款低成本、高性能的低壓等離子設(shè)備，擁有10.5升的清洗容量，適用于小批量生產(chǎn)、分析、醫(yī)療技術(shù)、研究開發(fā)、考古和紡織技術(shù)等領(lǐng)域。ATTO設(shè)備提供手動操作或基本PC控制系統(tǒng)，為您帶來靈活性和便捷性。
規(guī)格亮點：
? 設(shè)備尺寸：寬425 mm、高275 mm、深450 mm
? 真空腔室：∅ 211 mm，長300 mm，采用玻璃（硼硅玻璃）材質(zhì)
? 腔室容積：約10.5升
? 氣體供給：2個針型閥控制的氣體通道，配備MFC
? 發(fā)生器：40 kHz/200 W、13.56 MHz/300 W
? 真空泵：最小抽吸性能3 m3/h
? 部件支架：1個產(chǎn)品支架
? 控制系統(tǒng)：手動或Basic PC控制系統(tǒng)（Microsoft Windows CE）
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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