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真空離子清洗機(jī) 醫(yī)療器械等離子真空清洗機(jī) 金屬氧化層清洗機(jī)
（1.2）真空離子清洗機(jī) 醫(yī)療器械等離子真空清洗機(jī) 金屬氧化層清洗機(jī)原理
等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三個(gè)大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。
（A）控制單元：
控制單元主要分為半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。
而控制單元又分為兩個(gè)大的部分：1）電源部分：主要電源頻率有三種，分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的，而2.45GHz又稱為微波等離子。2）系統(tǒng)控制單元：分三種，按鈕控制（半自動(dòng)、全自動(dòng)）、電腦控制、PLC控制（液晶觸摸屏控制）。
（B）真空腔體：
真空腔體主要是分為兩種材質(zhì)的：1）不銹鋼真空腔體，2）石英腔體，3）鋁合金腔體。
（C）真空泵：
真空泵種類較多，其選擇會(huì)根據(jù)用戶的真空度要求、體積要求來配置。
廣泛應(yīng)用于：
等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無需添加化學(xué)藥劑,對(duì)環(huán)境無污染。
2.廣適性：不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；
3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長(zhǎng)保存時(shí)間和較高表面張力。
4.功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10-1000A），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能；
5.低成本：裝置簡(jiǎn)單，易操作維修，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。
6.全過程可控工藝：所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。
7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡(jiǎn)單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。
