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GM-6工業(yè)顯微鏡廣泛應用于半導體,電子工業(yè)進行晶體,集成電路的檢驗和科學研究.

配備有反射照明,成象和觀察系統,偏光裝置.

Industrial  microscope  is  widely  used  for  crystal,  integrated  circuit  (IC)  examination and  research.  It  is  supplied  with  reflected  illumination,  imaging  and  viewing  system, polarized  imaging  system.

規(guī)格  Specifications 

1、◇ 無限遠光學系統,管鏡焦距200mm

    Infinitive  Optical  System,  Tube  Lens  Focal  Length  200mm

2、◇ 鉸鏈式三目鏡筒,30°傾斜, 瞳距55-75mm

    Compensation  Free  Trinocular  Tube,  Inclined  at  30°,  Interpupillary  Distance  55-75mm

3、◇ 高眼點,大視場目鏡WF10X/22

    High  Point  and  Wide  Field  Eyepiece  WF10/22

4、◇ 長工作距離,平場復消色差物鏡2X/0.055,  5X/0.14,  10X/0.28,  20X/0.29,  50X/0.42

     Long  Working  Distance,  Plan  Apo  Objectives  2X/0.055,  5X/0.14,  10X/0.28,  20X/0.29,  50X/0.42

5、◇ 五孔物鏡轉換器

     Quintuple  Nosepiece

6.◇  6″雙層活動平臺和圓平臺

     6″Double  Layers  Mechanical  Stage  and  circle  stage

7、 同軸粗微調焦機構,微動格值0.002mm

    Coaxial  Coarse  &  Fin  Focus  Adjustment  System,   Fine  Division  0.002mm

8、◇照明系統  Illumination  System12V50W鹵素燈照明

9、圖像采集裝置CV320

10、顯微圖像分析軟件Image Analysis System 11.0。