全二維氣相色譜GC×GC的發(fā)展史
個階段是上世紀后二十年,從被發(fā)明,到隨后一系列色譜學基礎性研究,到各種早期的氣流調制和熱調制器技術的發(fā)展,以及數(shù)據(jù)處理方法的提出與開發(fā),全二維氣相色譜技術逐漸被認識、認可和完善。
第二個階段是本世紀頭十年,由商業(yè)化的熱調制器、數(shù)據(jù)處理軟件,和高采樣率的飛行時間質譜構成的全二維系統(tǒng)在市場上獲得成功,進入到各個行業(yè)的分析領域得到實際應用。全二維氣相色譜已成為針對復雜樣品的重要甚至分析手段。
第三個階段是2010年后到未來的一段時間,通過對文獻和學術會議的追蹤,發(fā)現(xiàn)人們一直在探索更加簡便經濟的熱調制技術。結合業(yè)界不斷推出快速掃描單四極桿和飛行時間質譜,進入全二維氣質領域,預計這些合力終將帶動全二維氣相和氣質走出小眾的科研市場,在普通實驗室,甚至移動或在線分析領域得到普及應用。
GC×GC熱調制技術發(fā)展史:
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1991年,Philips和Liu提出熱調制技術并申請了;
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1997年,Marriott發(fā)明了縱向調制冷卻系統(tǒng)(LMCS),真正將GC×GC技術推向實用;
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2000年,Ledford采用雙冷熱噴嘴,利用液態(tài)CO2和熱空氣進行調制;
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21世紀初,利用冷熱噴嘴的熱調制技術得到快速發(fā)展并實現(xiàn)商業(yè)化,逐漸成為GC×GC的主流調制技術;
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2010年,使用制冷機進行制冷,出現(xiàn)了不使用液氦(但需要壓縮空氣)的噴嘴式熱調制器并實現(xiàn)商業(yè)化;
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2010年,個微型固態(tài)熱調制器誕生,在硅晶片上利用脈沖式電阻加熱和一塊半導體制冷元件實現(xiàn)熱調制,但由于微加工工藝難度大和成本過高,未能實現(xiàn)商業(yè)化;
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2011年,渦旋管冷卻技術用于熱調制器,改進后可以實現(xiàn)不消耗制冷劑對有限范圍內的化合物進行熱調制;
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2012年,在微型熱調制器的技術基礎上發(fā)展出不需要微加工工藝的固態(tài)熱調制器,*擺脫制冷劑的使用;
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2015年,固態(tài)熱調制器商業(yè)化并投入市場,為GC×GC的普及創(chuàng)造了條件。