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RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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