美國OAI INSTRUMENTS光刻機6000規(guī)格

光刻方式：接近式，軟，硬，真空接觸式

基底尺寸：2-12寸晶圓或者zui大200mm方形

曝光分辨率：

真空接觸:0.5-0.8um

硬接觸:0.8-1.0um

軟接觸:1.0-3.0um

接近式(20um 間隙):3.0um

曝光均勻性：優(yōu)于±3%

對準(zhǔn)精度：頂面0.5um，底面1.0um（選件）

產(chǎn)量：180片/小時zui大

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