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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
EXTECH CG204 測厚儀,CG204 涂層測厚儀,EXTECH一級代理 質(zhì)量保證,*,: 蘇
產(chǎn)品展示圖如下所示：
EXTECH CG204 測厚儀,CG204 涂層測厚儀,EXTECH一級代理 特征：
基板自動識別
鐵基體的磁感應(yīng)
有色金屬襯底渦流測量
易于使用的菜單系統(tǒng)
兩種測量模式：單次和連續(xù)
兩種工作模式：直接和組
存儲400讀數(shù)：80直接和320組
用戶可編程的高/低報警
zui小/zui大/平均，一個或兩個點校準(zhǔn)
兩節(jié)AAA電池，USB電纜，軟件校準(zhǔn)校準(zhǔn)鐵，鋁，精度標(biāo)準(zhǔn)，和袋盒
規(guī)格:
傳感器探頭 鐵磁性 非鐵磁性
測量原理 磁感應(yīng) 渦流原理
測量范圍
鍍膜厚度
0～1250μm
0～49.21mils
0～1250μm
0～49.21mils
精確度1
（讀數(shù)的 %）
0～850μm:±(3% + 1μm)
850μm ～1250μm:(±5%)
0～33.46mils:±（3% +
0.039mils）
33.46mils ～49.21mils:
(±5%)
0～850μm:±(3% + 1.5μm)
850μm ～1250μm:(±5%)
0～33.46mils:±（3% +
0.059mils）
33.46mils ～49.21mils:
(±5%)
分辨率 0～50μm:（0.1μm）
50μm ～850μm:（1μm）
850μm ～1250μm:
（0.01μm）
0～1.968mils:（0.001mils）
1.968mils～33.46mil:s
（0.01mils）
33.46mils～49.21mils:
（0.1mils）
0～50μm:（0.1μm）
50μm ～850μm:（1μm）
850μm ～1250μm:
（0.01μm）
0～1.968mils:（0.001mils）
1.968mils～33.46mils:
（0.01mils）
33.46mils～49.21mils:
（0.1mils）
zui小曲率半徑
基材
1.5mm（59.06”） 3mm（0.004”）
基材zui小區(qū)域的直徑
7mm（275.6”） 5mm（196.9”）
基材的基本臨界厚度
0.5mm（19.69”） 0.3mm（11.81）
工業(yè)標(biāo)準(zhǔn) 符合 GB/T 4956-1985、GB/T 4957-1985、JB/T 8393-1996、JJG
889-95 以及 JJG 818-93 的要求
工作溫度 32°F~104°F (0°C~40°C)
相對工作濕度(R.H.)
20%~90% 相對濕度
尺寸 4.3 x 2.0 x 1.0”（110 x 50 x 23mm）
重量 3.9 oz.（100g）
精確度聲明適用于經(jīng)過歸零及校準(zhǔn)后接近待測薄膜厚度，以及使用相同的基底金屬并且儀表在環(huán)境溫度下較為穩(wěn)定的平面上使用。應(yīng)將基準(zhǔn)薄膜或任何參照標(biāo)準(zhǔn)的精確度添加到測量結(jié)果中。
EXTECH CG204 兩點校準(zhǔn)
此方法需要使用兩個薄膜。如有可能，較厚的薄膜的厚度應(yīng)是較薄的薄膜的 1.5 倍。為了獲得*校準(zhǔn)結(jié)果，預(yù)期的厚度值應(yīng)在兩個校準(zhǔn)值之間。
此方法特別適用于獲得高精度讀數(shù)。建議采用多次校準(zhǔn)所得的平均值。這樣會大幅減少在校準(zhǔn)上限值和下限值時出現(xiàn)的分散的影響。
1. 進行零點校準(zhǔn)（上述）
2. 啟用選項編程菜單中的校準(zhǔn)模式。
3. 對較薄的校準(zhǔn)基準(zhǔn)薄膜進行一點校準(zhǔn)（上述）。
4. 使用較厚的校準(zhǔn)薄膜（比如 997?m）重復(fù)步驟 3.
5. 關(guān)閉儀表可保存測量值。
EXTECH CG204 校準(zhǔn)注意事項：
1. 校準(zhǔn)薄膜的厚度應(yīng)大致上等于待測鍍膜厚度的估算值。
2. 可按需要進行多次校準(zhǔn)。舊的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)會被覆蓋，但零點校準(zhǔn)數(shù)據(jù)會一直存儲在內(nèi)存中，直至進行另一次零點校準(zhǔn)。
EXTECH CG204 噴砂表面的校準(zhǔn)
噴砂表面的物理性質(zhì)會產(chǎn)生比正常鍍膜厚度讀數(shù)高的值。超過峰值的平均厚度值可通過以下方法確定：
1. 應(yīng)按校準(zhǔn)說明對儀表進行校準(zhǔn)。使用曲率半徑相同且基質(zhì)與待測設(shè)備相同的光滑的校準(zhǔn)樣品。
2. 對于無鍍膜、表面噴砂的樣品，用大約 10 個讀數(shù)生成平均值 Xo.
3. 對于鍍膜、表面噴砂的樣品，在此基礎(chǔ)上再增加 10 個讀數(shù)生成平均值 Xm
4. 這兩個平均值之差為超過峰值的鍍膜厚度平均值 Xeff.此外，應(yīng)考慮到對于兩個值 Xm 和 Xo的較大的標(biāo)準(zhǔn)方差‘S’：Xeff = (Xm - Xo) ±S
注意：對于厚度超過 300µm 的鍍膜，粗糙度的影響通常不太重要，因此，不必采用上述校準(zhǔn)方法