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離子清洗機(jī)的離子清洗機(jī)的清洗分類(lèi)及性能

時(shí)間:2023/4/7閱讀:1364
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  離子清洗機(jī)主要通過(guò)反應(yīng)類(lèi)型和激發(fā)頻率兩個(gè)方面來(lái)分類(lèi)。
  反應(yīng)類(lèi)型分類(lèi)
  等離子體與固體表面發(fā)生反應(yīng)可以分為物理反應(yīng)(離子轟擊)和化學(xué)反應(yīng)。
  物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面,使污染物脫離表面最終被真空泵吸走。物理反應(yīng)為主的等離子體清洗,也叫做濺射腐蝕(SPE)或離子銑(IM),其優(yōu)點(diǎn):本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),清潔表面不會(huì)留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性。缺點(diǎn):對(duì)表面產(chǎn)生了很大的損害,會(huì)產(chǎn)生很大的熱效應(yīng),對(duì)被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差,腐蝕速度較低。典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗。
  化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì),再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。
  化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗的優(yōu)點(diǎn):清洗速度較高、選擇性好、對(duì)清除有機(jī)污染物比較有效,缺點(diǎn):表面產(chǎn)生氧化物。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過(guò)等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?;顫姡菀着c碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物,去除表面的污染物。
  激發(fā)頻率分類(lèi)
  等離子態(tài)的密度和激發(fā)頻率的關(guān)系式:nc=1.2425×108v2,其中nc為等離子態(tài)密度(cm-3),v為激發(fā)頻(Hz)。等離子體激發(fā)頻率分為:頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體,13.56MHz的等離子體為射頻等離子體,2.45GHz的等離子體為微波等離子體。
  超聲等離子體的自偏壓為1000V左右,射頻等離子體的自偏壓為250V左右,微波等離子體的自偏壓很低,只有幾十伏。超聲等離子體發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng),射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng),微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。

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