11月30日-12月1日，第 23 屆全國分子光譜學學術會議和第五屆光譜年會暨黃本立院士百歲華誕學術研討會在福建省廈門市召開。此次盛會由中國光學學會、中國化學會，以及中國光學學會光譜專業(yè)委員主辦，由廈門大學承辦。本次大會匯聚了國內外光譜相關領域的院士、專家學者和企業(yè)代表，通過這一平臺，與會者不僅分享了各自研究領域的最新成果，并就未來所面臨的科技挑戰(zhàn)展開了深入探討。

譜育科技攜SUPEC 7000 ICP-MS，EXPEC 6500 ICP-OES，EXPEC 3750 GC-MS、SUPEC 5000 COD等高端分析儀器參與本次會議，為促進實驗室分析研究和應用技術發(fā)展貢獻力量。

譜育科技擁有豐富的技術平臺和產品體系，掌握了質譜、色譜、光譜、理化等分析檢測技術及氣體、液體、固體等進樣前處理技術。在光譜技術領域，公司積累了近20年的研發(fā)沉淀，構建了包括分子光譜、原子光譜和熒光光譜在內的多個技術平臺，展現(xiàn)出強勁的創(chuàng)新動力。

精彩報告一覽

會議上，譜育科技質譜分析研究部副經理 吳智威博士發(fā)表了題為《ICP質譜技術在超痕量分析與瞬態(tài)信號分析領域中的應用進展》的報告。

吳博向與會專家詳細介紹了譜育科技ICP-MS/MS與ICP-Q-TOF在超痕量分析領域及瞬態(tài)信號分析領域的最新進展。其中，EXPEC 7350S型 ICP-MS/MS基于其優(yōu)異的檢出性能，目前已具備全面覆蓋晶圓表面雜質、濕化學品、電子特氣、硅烷等典型樣品的超痕量分析需求的技術能力，并且可為我國半導體檢測設備與技術的國產替代提供強有力的技術支撐。而在瞬態(tài)信號分析方面，吳博基于ICP-Q-TOF技術對金屬標簽摻雜納米/微米塑料的表征研究為例，介紹了譜育科技在瞬態(tài)信號分析領域中的最新進展，并對ICP質譜技術在單顆粒、單細胞的進一步前沿應用進行了展望。

會議期間舉行了“黃本立院士獎學金”捐贈證書頒發(fā)儀式，該學獎金為支持廈門大學化工學院的建設，激勵在校學子勇攀科學高峰。譜育科技捐獻了10萬元助資學院的黃本立獎金，吳智威博士代表譜育科技領取黃本立獎學金捐贈證書。

展望未來，譜育科技將不斷秉承黃本立院士永攀高峰、敢為人先的創(chuàng)新精神，以及專心努力潛心研究的奉獻精神，堅定不移地推進高端科學儀器國產化的發(fā)展道路。我們致力于通過不懈努力，支持國家在科技領域實現(xiàn)更高水平的自主可控，不斷向著更加宏偉的目標前進，為我國科技進步貢獻力量。