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SiC同質(zhì)外延厚度分析
閱讀：1506 發(fā)布時間：2020-11-5
鈍化層分析 鈍化層作為保護(hù)層、絕緣層或抗反射層，在半 導(dǎo)體材料中扮演著重要的角色。 VERTEX 系列 光譜儀是分析鈍化層的理想工具，它可以實 現(xiàn)快速靈敏的無損分析。
磷硅玻璃(PSG)和硼磷硅玻璃(BPSG)中硼和 磷的定量分析 分析SiN等離子層和Si-O基鈍化層 分析超低K層
厚度分析 VERTEX 系列光譜儀可用于測量半導(dǎo)體層狀結(jié)構(gòu) 中的層厚度，精度*。此應(yīng)用是基于對紅外光 在層狀結(jié)構(gòu)中產(chǎn)生的光干涉效應(yīng)的分析，可用于 亞微米量級至毫米量級的厚度分析。
用反射或透射實驗分析層厚度。 的分析軟件，用于分析復(fù)雜的層狀結(jié)構(gòu)。 可選薄膜掃描成像附件，可測量直徑至12”的 硅晶片。
