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XD-1000電鍍鉻層測(cè)厚儀
  • XD-1000電鍍鉻層測(cè)厚儀

貨物所在地:廣東深圳市

更新時(shí)間:2025-05-02 15:18:53

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XD-1000電鍍鉻層測(cè)厚儀配備移動(dòng)平臺(tái),可全自動(dòng)軟件操作,并進(jìn)行多點(diǎn)測(cè)試,檢測(cè)結(jié)果更加精準(zhǔn),實(shí)現(xiàn)“傻瓜“式操作,電鍍層測(cè)厚儀,該產(chǎn)品適合用于電鍍金,銀,銅,鎳,錫,鉻,鋅,以及合金層厚度分析,多同時(shí)分析5層鍍層,薄分析至0.005微米。

儀器簡(jiǎn)介:

XD鍍層測(cè)厚儀是一款專(zhuān)用于檢測(cè)各種異形件,特別適用于五金類(lèi)模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。

該系列儀器不但可以應(yīng)對(duì)平面、微小樣品的檢測(cè),在面對(duì)凹槽曲面深度0-90mm以內(nèi)的異形件具備巨大的優(yōu)勢(shì)。

被廣泛用于各類(lèi)產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

  • *EFP算法:多層多元素、各種元素及有機(jī)物,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量

  • 上照式設(shè)計(jì):實(shí)現(xiàn)可對(duì)超大工件進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測(cè)量

  • 自動(dòng)對(duì)焦:高低大小樣品可快速清晰對(duì)焦

  • 變焦裝置算法:可對(duì)0-90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測(cè)

  • 小面積測(cè)量:最小測(cè)量面積0.002mm2

  • 可編程自動(dòng)位移:選配自動(dòng)平臺(tái),X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無(wú)人值守自動(dòng)測(cè)量


喬邦XRF電鍍層測(cè)厚儀價(jià)格性能特點(diǎn)


專(zhuān)業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開(kāi)發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過(guò)EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。



喬邦XRF電鍍層測(cè)厚儀價(jià)格技術(shù)指標(biāo)


型號(hào):XD-1000 XRF鍍層膜厚測(cè)試儀

1. 元素分析范圍:氯(Cl)- 鈾(U)

2. 涂鍍層分析范圍:氯(Cl)/鋰(Li)- 鈾(U)

3. 厚度檢出限:0.005μm

4. 成分檢出限:1ppm

5. 最小測(cè)量直徑0.05mm(最小測(cè)量面積0.002mm2)

6. 對(duì)焦距離:0-90mm

7. 樣品腔尺寸:530mm*570mm*150mm

8. 儀器尺寸:760mm*550mm*635mm

9. 儀器重量:100KG

選擇一六儀器的四大理由:

1.一機(jī)多用,無(wú)損檢測(cè)

2.最小測(cè)量面積0.002mm2

3.可檢測(cè)凹槽0-90mm的異形件

4.輕元素,重復(fù)鍍層,同種元素不同層亦可檢測(cè)

XD-1000電鍍鉻層測(cè)厚儀技術(shù)參數(shù)

重量:100kg

相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型

多變量非線性回收程序

長(zhǎng)期工作穩(wěn)定性高

度適應(yīng)范圍為15℃至30℃

元素分析范圍從硫(CL)到鈾(U)中間的任意金屬鍍層

一次可同時(shí)分析多達(dá)五層鍍層

薄可測(cè)試0.005μm

分析含量一般為2ppm到99.9%

鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)

任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型

電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源

儀器尺寸:576(W) x 495 (D) x 545(H) m

XD-1000電鍍鉻層測(cè)厚儀性能優(yōu)勢(shì)

可靠性高:

由于測(cè)試過(guò)程無(wú)人為因素干擾,儀器自身分析精度、重復(fù)性與穩(wěn)定性很高。所以,其測(cè)量的可靠性更高。

滿足不同需求:

:測(cè)試軟件為WINDOWS操作系統(tǒng)軟件,操作方便、功能強(qiáng)大,軟件可監(jiān)控儀器狀態(tài),設(shè)定儀器參數(shù),并就有多種*分析方法,工作曲線制作方法靈活多樣,方便滿足不同客戶不同樣品的測(cè)試需要。

快速:

1分鐘就可以測(cè)定樣品鍍層的厚度,并達(dá)到測(cè)量精度要求。

無(wú)損:

測(cè)試前后,樣品無(wú)任何形式的變化。

直觀:

實(shí)時(shí)譜圖,可直觀顯示產(chǎn)品測(cè)試點(diǎn)

簡(jiǎn)易:

對(duì)人員技術(shù)要求較低,操作簡(jiǎn)單方便,并且維護(hù)簡(jiǎn)單方便。

性價(jià)比高:

相比其他類(lèi)類(lèi)儀器,x熒光鍍層測(cè)厚儀在總體使用成本上有優(yōu)勢(shì)的,可以讓更多的企業(yè)和接受。








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