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德國hellma 氟化鈣晶體技術參數(shù)
閱讀：1055 發(fā)布時間：2023-12-7氟化鈣晶體
用于UV/VIS/IR應用的光學材料
多年來，Hellma Materials CaF2 一直被用作半導體生產(chǎn)微光刻的光學關鍵材料。CaF2 被確立為投影和照明光學中準分子激光光學器件的行業(yè)標準材料。CaF2 的光學特性使各種高級應用成為可能。
應用
由于其的光學質(zhì)量和在紫外、可見分光光度計和紅外光譜范圍內(nèi)的出色透射率，Hellma Materials CaF2 可用于多種應用：
紅外光學器件
用于天文儀器的光學元件
天基光學器件
顯微鏡光學元件
光譜光學
紫外光學
激光窗口
準分子激光光學器件
顯微光刻光學器件
優(yōu)勢
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有的光學特性：
從深紫外到紅外的高寬帶透射率（130nm 至 8μm）
低折射率 （nd = 1.43384）
低光譜色散 （vd = 95.23）
準分子激光光學器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性
合格的高能粒子和輻射耐受性
直徑可達 420mm
氟化鋇VIS/IR光學材料
Hellma Materials BaF2 在高達 12μm 的可見光和紅外光譜范圍內(nèi)具有出色的透射率。
這允許在可見光和紅外雙通道系統(tǒng)中將 BaF2 用作寬帶光學材料，用于可見光和熱成像。
BaF2 的折射率低于許多其他光學材料。這減少了由菲涅耳反射引起的傳輸損耗。
應用
Hellma Materials BaF2 是一種出色的光學材料，適用于可見光和紅外光譜范圍的寬光譜范圍。這使得在復雜的應用中得以利用：
集成VIS通道的熱成像和夜視
用于天文儀器的光學元件
紅外激光光學器件
用于檢測高能γ輻射>5Me的閃爍體
優(yōu)勢
Hellma Materials BaF2 是一種的光學材料：
可見光透射率高，紅外范圍擴展至12μm
低折射率 （nd = 1.47447）
低光譜色散 （vd = 81.61）
直徑可達 360 mm