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什么是晶圓?如何檢測(cè)?

閱讀:2488        發(fā)布時(shí)間:2020-10-22
晶圓是指制作硅半導(dǎo)體積體電路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高純度的多晶硅溶解后摻入硅晶體晶種,然后慢慢拉出,形成圓柱形的單晶硅。硅晶棒在經(jīng)過研磨,拋光,切片后,形成硅晶圓片,也就是晶圓。




半導(dǎo)體工業(yè)對(duì)于晶圓表面缺陷檢測(cè)的要求,一般是要求高效準(zhǔn)確,能夠捕捉有效缺陷,實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)檢測(cè)。較為普遍的表面檢測(cè)技術(shù)主要可以分為兩大類:針接觸法和非接觸法,接觸法以針觸法為代表;非接觸法又可以分為原子力法和光學(xué)法。在具體使用時(shí),又可以分為成像的和非成像的。

SF-3分光干渉式晶圓膜厚儀產(chǎn)品特色:

非接觸式、非破壞性光學(xué)式膜厚檢測(cè)
采用分光干涉法實(shí)現(xiàn)高度檢測(cè)再現(xiàn)性
可進(jìn)行高速的即時(shí)研磨檢測(cè)
可穿越保護(hù)膜、觀景窗等中間層的檢測(cè)
可對(duì)應(yīng)長(zhǎng)工作距離、且容易安裝于產(chǎn)線或者設(shè)備中
體積小、省空間、設(shè)備安裝簡(jiǎn)易
可對(duì)應(yīng)線上檢測(cè)的外部信號(hào)觸發(fā)需求
采用適合膜厚檢測(cè)的獨(dú)自解析演算法
可自動(dòng)進(jìn)行膜厚分布制圖(選配項(xiàng)目)

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