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光譜橢偏儀你知道多少呢？
閱讀：1428 發(fā)布時(shí)間：2020-11-29
橢偏儀的適用樣品范圍很廣，紫外至近紅外波段透過半透過等材料都不在話下，也就是可以表征絕大部分的半導(dǎo)體和介電薄膜材料，甚至厚度在幾十納米以下的金屬薄層也是囊中之物。
橢偏儀可以直接測量樣品折射率和消光系數(shù)，也就是光的吸收強(qiáng)度；
在此基礎(chǔ)上，我們可以鑒定樣品的組分和帶隙；
后通過與強(qiáng)大的軟件分析相結(jié)合，樣品信息如厚度、粗糙度、均勻度、孔隙率、電導(dǎo)率等，在橢偏儀面前一覽無余。
SE-VM是一款高精度快速測量光譜橢偏儀?？蓪?shí)現(xiàn)科研/企業(yè)級高精度快速光譜橢偏測量，支持多角度，微光斑，可視化調(diào)平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設(shè)計(jì)。
二、光譜橢偏儀產(chǎn)品特點(diǎn)
1.采用高性能進(jìn)口復(fù)合光源，光譜覆蓋可見到近紅外范圍 (380-1000nm)，可支持?jǐn)U展紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)
2. 高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、PCRSA配置，實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集；
3. 支持系列配置靈活，可根據(jù)不同應(yīng)用場景支持多功能模塊化定制；
4. 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；
廣泛應(yīng)用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)光學(xué)薄膜、納米結(jié)構(gòu)的光學(xué)常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析。