產(chǎn)品簡(jiǎn)介
射波面產(chǎn)生相位移:移過(guò)一個(gè)柵距時(shí)將正
一級(jí)衍射波面在正方向上偏移一個(gè)光波波
長(zhǎng),而負(fù)一級(jí)衍射光波面在負(fù)方向上偏移
一個(gè)光波波長(zhǎng)。由于這兩束光離開(kāi)相位光
柵時(shí)相互發(fā)生干涉,這兩束光彼此相對(duì)位
移兩個(gè)光波波長(zhǎng)。也就是說(shuō),相對(duì)運(yùn)動(dòng)一
個(gè)柵距可以得到兩個(gè)信號(hào)周期。
詳細(xì)介紹
HEIDENHAIN直線光柵尺: 其實(shí)起到的作用是對(duì)刀具和工件的坐標(biāo)起一個(gè)檢測(cè)的作用,在數(shù)控機(jī)床中常用來(lái)觀察其是否走刀有誤差,以起到一個(gè)補(bǔ)償?shù)毒叩倪\(yùn)動(dòng)的誤差的補(bǔ)償作用.其實(shí)就象人眼睛看到我切割偏沒(méi)偏的作用.然后可以給手起到一個(gè)是否要調(diào)整我是否要改變用力的標(biāo)準(zhǔn),相當(dāng)于眼睛.增量測(cè)量法 增量測(cè)量法的磁柵由周期性柵線組成。
通 過(guò)計(jì)算自某點(diǎn)開(kāi)始的增量數(shù)(測(cè)量步距 數(shù))獲得位置信息。由于必須用參考 點(diǎn)確定位置值,因此測(cè)量基準(zhǔn)的光柵尺上 還有一個(gè)參考點(diǎn)刻軌。在光柵尺上,由參 考點(diǎn)確定的位置是在一個(gè)信號(hào)周期分 配的。因此,必須通過(guò)掃描參考點(diǎn)建立絕 對(duì)基準(zhǔn)點(diǎn)或確定上次選擇的原點(diǎn)。
海德漢光柵尺在不理想的情況下,可能需要運(yùn)動(dòng)機(jī)床 測(cè)量范圍的相當(dāng)大部分。為加快和簡(jiǎn)化 “參考點(diǎn)回零”操作,許多海德漢尺帶距 離編碼參考點(diǎn),這些參考點(diǎn)之間彼此相距 數(shù)學(xué)算法確定的距離。因此只需運(yùn)動(dòng)數(shù)毫 米,一旦移過(guò)兩個(gè)相鄰參考點(diǎn)后,后續(xù)電 子電路就能找到參考點(diǎn)位置(見(jiàn)下 表)。距離編碼參考點(diǎn)的光柵尺在型號(hào)后 均帶字母“C”(例如LIF 181C)。 對(duì)于距離編碼參考點(diǎn),參考點(diǎn)B的位 置用兩個(gè)參考點(diǎn)間步距數(shù)和以下公式計(jì) 算:
HEIDENHAIN直線光柵尺光電掃描 海德漢的大多數(shù)光柵尺采用光電掃描原 理。光電掃描在工作中無(wú)接觸,因此無(wú)磨 損。光電掃描可以檢測(cè)到非常細(xì)小的光 柵,柵線寬度可僅數(shù)微米,并能輸出非常 細(xì)小的信號(hào)周期信號(hào)。 測(cè)量基準(zhǔn)的柵距越小,光電掃描的衍射現(xiàn) 象越嚴(yán)重。
海德漢直線光柵尺采用兩種掃 描原理:
• 成像掃描原理用于10 µm至200 µm的柵 距。
• 干涉掃描原理用于柵距4 µm甚至更小柵 距的光柵。 成像掃描原理 簡(jiǎn)單地說(shuō)成像掃描原理是用透射光生成信 號(hào):兩個(gè)柵距相同或相近的光柵與掃描掩 膜彼此相對(duì)運(yùn)動(dòng)。
掃描掩膜的基體為透明 色,而作為測(cè)量基準(zhǔn)的光柵材料可為透明 材料也可以為反光材料。 當(dāng)平行光穿過(guò)光柵時(shí),以特定的間隔形成 明暗的光影區(qū)。在該處設(shè)有柵距相同或相 近的掃描光柵。當(dāng)兩個(gè)光柵相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí), 入射光被調(diào)制:在狹縫對(duì)齊時(shí),光線通 過(guò)。
HEIDENHAIN光柵尺如果一個(gè)光柵的刻線與另一個(gè)光柵的 狹縫對(duì)齊,光線無(wú)法通過(guò)。光電池將這些 光強(qiáng)變化轉(zhuǎn)化成電信號(hào)。特殊結(jié)構(gòu)的掃描 掩膜將光強(qiáng)調(diào)制為近正弦輸出信號(hào)。光柵 條紋的柵距越小,掃描掩膜與光柵尺間的 間距越小,公差越嚴(yán)。對(duì)于成像掃描原理 的光柵尺,10 μm或更大柵距的光柵尺可 滿足實(shí)用的安裝公差要求。 LIC和LIDA系列直線光柵尺為成像掃描原 理。
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