目錄:上海波銘科學儀器有限公司>>光譜系統(tǒng)>>顯微缺陷膜厚>> 線掃描膜厚儀（在線型）
| 膜厚范圍 | 0.1～300 μm |
| 測量幅度 | 500 mm～最大10 m |
| 測定間隔 | 1 ms～ |
| 裝置大小(W×D×H） | 81×140×343 mm |
| 重量 | 4 kg(僅頭部) |
| 最大功耗 | AC100 V±10% 125VA |
500mm寬的包裝薄膜
上海波銘科學儀器有限公司主要提供光譜光電集成系統(tǒng)、晶萃光學機械和光學平臺、激光器、Edmund 光學元件、Newport 產(chǎn)品、濱松光電探測器、卓立漢光熒光拉曼光譜儀、是德 Keysight 電學測試系統(tǒng)、大塚 Otsuka 膜厚儀、鑫圖科研級相機、Semilab 半導體測試設(shè)備及高低溫探針臺系統(tǒng)。經(jīng)過多年的發(fā)展，上海波銘科學儀器有限公司在市場上已取得了一定的地位。我們的產(chǎn)品和服務(wù)在行業(yè)內(nèi)具有較高的知zhi名度和美譽度，客戶遍布全國。我們將繼續(xù)努力，不斷提升市場地位和影響力。
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