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北京儀光科技有限公司

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澤攸臺階儀從納米臺階到微納制造的“精密標尺”

閱讀:151      發(fā)布時間:2025-6-25
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  在半導體芯片制造、MEMS器件加工及光學薄膜研發(fā)中,微米級甚至納米級的臺階高度直接決定器件性能。澤攸臺階儀憑借高精度非接觸測量、自動化數據分析與多場景適配,成為微納結構表征的“黃金工具”。其核心技術融合了光學干涉、精密運動控制與智能算法,將臺階高度測量精度推向亞納米級,為微納制造提供從研發(fā)到量產的全流程質量保障。
  一、光學干涉核心:納米級測量的“光影密碼”
  1.白光干涉技術
 ?、俨捎脤拵ED光源,通過邁克爾遜干涉儀生成等厚干涉條紋,利用垂直掃描干涉(VSI)模式實現(xiàn)大范圍(10μm-2mm)臺階測量;
 ?、谙嘁聘缮妫≒SI)模式通過壓電陶瓷驅動參考鏡步進移動(步長λ/8),結合傅里葉變換算法提取相位信息,分辨率達0.01nm。
  2.抗干擾設計
  ①雙光路補償系統(tǒng)消除環(huán)境振動與空氣折射率波動影響,測量重復性<0.05nm;
  ②偏振分光棱鏡(PBS)隔離雜散光,信噪比提升40dB,適應潔凈室與普通實驗室環(huán)境。
  二、精密運動系統(tǒng):從“微米級位移”到“納米級控制”
  1.閉環(huán)壓電掃描臺
  ①采用三軸壓電陶瓷驅動器,配合電容位移傳感器,實現(xiàn)樣品表面亞納米級步進掃描;
  ②振動隔離平臺抑制地面震動,確保長行程測量穩(wěn)定性。
  2.智能掃描策略
  ①自適應步長算法:根據表面粗糙度動態(tài)調整掃描密度,平衡速度與精度;
  ②拼接測量功能:支持100mm×100mm大樣品分區(qū)掃描,自動對齊誤差<50nm。
  三、智能分析與報告:從“原始數據”到“工藝決策”
  1.三維形貌重建
  ①基于Zernike多項式擬合去除表面波紋度,生成無失真三維形貌圖;
  ②粗糙度參數自動計算,符合ISO 4287標準。
  2.AI輔助缺陷識別
  ①深度學習模型標注臺階邊緣毛刺、塌陷等缺陷,分類準確率>98%;
 ?、跀祿毂葘δ埽簩y量結果與工藝設計值對比,生成偏差熱力圖,指導光刻、刻蝕參數優(yōu)化。
  四、應用場景:從晶圓制造到生物芯片
  1.半導體領域:測量光刻膠臺階高度,驗證蝕刻深度均勻性;
  2.微流控芯片:評估PDMS微通道深度,確保流體阻力一致性;
  3.光伏產業(yè):檢測PERC電池背面鈍化層厚度,提升光電轉換效率。
 

 

  澤攸臺階儀不僅是測量工具,更是微納制造的“工藝醫(yī)生”。從LED芯片的量子阱厚度控制到生物傳感器金膜的納米級平整度檢測,其技術突破讓微觀世界的“毫厘之差”無所遁形。未來,隨著原位加熱/冷卻模塊與多物理場耦合功能的加入,澤攸臺階儀或將實現(xiàn)動態(tài)過程測量,為下一代半導體與量子器件研發(fā)提供更強大的“納米顯微鏡”。對于追求精度的工程師而言,這臺儀器正是打開微納世界大門的“金鑰匙”。

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