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氧化硅拋光液的性能特點,一看便知

閱讀:1034        發(fā)布時間:2021-7-8
   氧化硅拋光液是針對不同研磨材料的特性進行*的配方設(shè)計,拋光過程中,pH值基本保持不變,從而保證拋光速率的穩(wěn)定,并節(jié)約拋光時間。廣泛用于多種材料納米級的化學(xué)機械拋光。如:藍寶石材料、硅片、不銹鋼、鋁鎂合金、化合物晶體等的拋光加工。
  由于納米二氧化硅成本相對較低,且具有良好的分散性、機械磨損性,高度度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點,是一種性能優(yōu)良的CM P技術(shù)用的拋光材料。因而常被用于金屬、藍寶石、單晶硅、微晶玻璃、光導(dǎo)攝像管等表面準(zhǔn)確拋光。
  氧化硅拋光液的性能特點都有哪些呢?
  1、均勻的球形SiO2粒子;可循環(huán)使用多次;
  2、去除率高,拋光性能穩(wěn)定;可選用中性或弱酸性拋光液對應(yīng)。
  3、精密的拋光質(zhì)量,Ra<0.2nm、TTV<3μm;
  4、有效減少拋光后的表面劃傷,降低拋光后的表面粗糙度。
  5、適用于35℃以下的低溫拋光工藝;
  6、高達到高平坦化研磨加工。
  7、該拋光液由高純納米二氧化硅復(fù)合配置而成,通過高科技術(shù)分散成納米顆粒,高含量分散均勻的納米拋光液。
  8、拋光速平坦度加工,拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子,不會對加工件造成物理損傷,速率快,利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達到高速拋光的目的
  9、高純度,拋光液不腐蝕設(shè)備,使用的安全性能高。
  氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。本產(chǎn)品可用于硅晶圓、藍寶石等半導(dǎo)體及襯底材料的粗拋和精拋,具有拋光速率高,拋光后易清洗,表面粗糙度低,能夠得到總厚偏差(TTV)極小的質(zhì)量表面。

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