GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀主要適用于掃描電鏡鍍覆導(dǎo)電膜，儀器操作簡(jiǎn)單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！
GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀（全自動(dòng)離子濺射儀）主要適用于掃描電鏡鍍覆導(dǎo)電膜，儀器操作簡(jiǎn)單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！
描述
1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射；
2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等；
3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃；
4、全自動(dòng)操作，簡(jiǎn)單易用，非常適用鎢燈絲、臺(tái)式掃描電鏡等；
濺射電流自動(dòng)調(diào)整—設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)真空度，從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流，調(diào)整時(shí)間＜5s，波動(dòng)范圍＜±5%；
5、無(wú)需按“實(shí)驗(yàn)”鍵調(diào)整濺射電流、無(wú)需操作“進(jìn)氣閥”：
（1）濺射時(shí)間自動(dòng)記憶——同類樣品一次設(shè)定即可；
（2）參數(shù)改變自動(dòng)調(diào)整——濺射過(guò)程中可以隨時(shí)調(diào)整濺射電流和濺射時(shí)長(zhǎng)，系統(tǒng)自動(dòng)計(jì)算疊加，無(wú)需終止濺射過(guò)程；
?。?）工作完成自動(dòng)放氣；
（4）樣品臺(tái)高度調(diào)節(jié)1秒完成；
?。?）濺射過(guò)程可以利用曲線顯示，清晰直觀；
?。?）極限真空：小于1Pa；
6、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠：
?。?）真空度高于100Pa，啟動(dòng)真空保護(hù)，無(wú)法濺射；
?。?）濺射電流高于50mA，停止濺射過(guò)程；
（3）真空泵工作時(shí)，系統(tǒng)無(wú)法進(jìn)行放氣操作；
7、GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀鍍層均勻，導(dǎo)電性良好。
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