GVC-1000全自動離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結構設計及人機界面方面更加注重人性，簡單智能。
全自動離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結構設計及人機界面方面更加注重人性，簡單智能。
對于SEM樣品常規(guī)適用黃金濺射，GVC-1000提供了一個低成本的解決方案，同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。同時通過智能的人機界面精確、簡單、方便控制儀器，同時具有估算鍍層厚度，實時顯示真空度，濺射電流。設定濺射時間。以及靶材的剩余情況。
GVC-1000全自動離子濺射儀特點：
1、全自動操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等。
(1)濺射電流自動調整——設定濺射電流后，系統(tǒng)自動調節(jié)真空度，從而達到設定的濺射電流，調整時間＜5s，波動范圍＜±5%；無需按“實驗”鍵調整濺射電流、無需操作“進氣閥”；
(2)濺射時間自動記憶——同類樣品一次設定即可；
(3)參數改變自動調整——濺射過程中可以隨時調整濺射電流和濺射時長，系統(tǒng)自動計算疊加，無需終止濺射過程；
(4)工作完成自動放氣；
(5)樣品臺高度調節(jié)1秒完成；
(6)濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀。
2、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠。
(1)真空度高于100Pa，啟動真空保護，無法濺射；
(2)濺射電流高于50mA，停止濺射過程；
(3)真空泵工作時，系統(tǒng)無法進行放氣操作。
3、鍍層均勻，導電性良好。
GVC-1000全自動離子濺射儀是專用于掃描電鏡（SEM）的樣品噴金儀器,能夠極為有效的提供樣品的導電性及導熱性,確保恒沉積速率,減少等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷.顯著提供掃描電鏡觀測結果。
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