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磁控濺射鍍膜機(jī):原理、工藝及應(yīng)用

閱讀:603      發(fā)布時(shí)間:2025-1-8
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  磁控濺射鍍膜機(jī)是一種先進(jìn)的表面處理技術(shù)設(shè)備,它利用磁場(chǎng)控制下的濺射過程,在基材表面形成一層均勻、致密的薄膜。其工作原理基于電場(chǎng)加速的高能離子流轟擊靶材表面,使靶材原子或分子被濺射出來,并在基材上沉積形成薄膜。
  在磁控濺射鍍膜工藝中,首先將欲沉積的材料制成靶材,并固定在陰極上?;膭t置于正對(duì)靶面的陽極上,距離靶材一定距離。系統(tǒng)被抽至高真空后,充入適量的惰性氣體(如氬氣)。在陰極和陽極間加上幾千伏的電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)作用下飛向陰極,與靶材表面原子碰撞,產(chǎn)生濺射原子。這些濺射原子在基材表面沉積,形成所需的薄膜。
  磁控濺射鍍膜機(jī)在多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。在光學(xué)領(lǐng)域,它可以用于制備各種光學(xué)薄膜,如增透膜、反射膜等。在電子工業(yè)中,磁控濺射鍍膜機(jī)被用于制造導(dǎo)電薄膜、絕緣膜等。此外,在機(jī)械加工行業(yè),磁控濺射鍍膜技術(shù)也被用于提高零件表面的硬度、耐磨性和耐腐蝕性。
  磁控濺射鍍膜機(jī)不僅具有鍍膜速度快、薄膜結(jié)構(gòu)致密、成膜均勻性好等優(yōu)點(diǎn),而且能夠制備多種材料組成的復(fù)合薄膜,滿足不同領(lǐng)域?qū)Ρ∧ば阅艿奶厥庖?。隨著科技的不斷發(fā)展,磁控濺射鍍膜機(jī)在材料科學(xué)、光學(xué)、電子學(xué)等領(lǐng)域的應(yīng)用前景將更加廣闊。

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